レイデント工業

使用目的：光学吸収性・潤滑性の向上・離型性・耐食性の向上・耐化学薬品・耐高真空性・耐アウトガス性

お客様の課題：
□ 強酸ガス雰囲気下でのバリア膜の必要
□ 高真空下での赤外線の吸収膜として、耐アウトガス性の必要
□ 潤滑性の向上
□ 耐食性の向上
□ 離型性の向上
□ 耐化学薬品（ガス雰囲気）
□ 光の吸収（赤外線の吸収性）

使用実績：
□ 直動レール
□ ボールねじ
□ 機械要素部品
□ 半導体製造装置部品
□ 吸着部品
□ バネ類
□ 各種製造装置治具類
□ 真空パーツ

使用目的：光学吸収性・耐軽紫外線性・耐レーザー変色・乱反射防止性・軽硬質耐摩耗性・耐軽有機溶剤性・耐高真空性・黒色意匠性

お客様の課題：
□ 黒色光学吸収性による乱反射防止（防眩性）
□ 有機セラミックス成分による軽面圧下での硬質耐摩耗性の必要
□ 宇宙空間や露光装置内での光学吸収を目的とする耐真空性や
 耐軽紫外線性の必要

使用実績：
□ レンズ筐体
□ 黒色ベース
□ 画像認識用治具類
□ 吸着ノズル
□ 光学部品
□ 光学マスク
□ 真空パーツ

使用目的：・光学吸収性・耐軽紫外線性・軽硬度耐摩耗性・耐軽有機溶剤性・帯電防止性・準導電性・真空吸着治具類の脱着性向上

お客様の課題：
□ 液晶ガラス吸着操作ボード（処理実績数 = 約 3000 枚以上）を初めとする帯電防止膜専用設計
□ 画像認識での光学吸収性を目的とした、吸着ノズルやベース
□ 微小電子部品の摺動性向上を目的とするパーツフィーダーや治具類

使用実績：
□ FPD 吸着操作ボード
□ 吸着ノズル
□ 吸着ベース
□ ローラー
□ パーツフィーダー

使用目的：耐熱性・高温安定性・溶融金属非粘着性・薄膜絶縁性・スパッタ防止・Cmタイプで耐熱1000℃（短時間）・耐摩耗性・紫外線吸収性・耐紫外線性・耐オゾン性・耐高真空アウトガス性

お客様の課題：
□ 高温（400℃）環境下で使用されるシューターの耐熱性、潤滑耐摩耗
 性（24h 連続）の必要
□ 溶接及びレーザー環境下での耐熱性、およびスパッタ付着防止の必要
□ リフローブロック：溶融金属の非粘着性、および黒色膜による輻射熱
 吸収の均一性の必要
□ 高強度の紫外線吸収、および耐熱性が求められる光学装置内ベース

使用実績：
□高温（400℃）環境下で使用されるシューターの耐熱性、潤滑耐摩耗性（24h連続）
□溶接及びレーザー環境下での耐熱性、スパッタ付着防止
□リフローブロック：溶融金属の非粘着性、黒色膜による輻射熱吸収の均一性
□高強度の紫外線吸収、耐熱性が求められる光学装置内ベース

使用目的：紫外線吸収性・黒色視認性（画像認識）・薄膜長期防錆・高密着性・耐ヒートショック・耐食性の向上・耐高真空性・薄膜高精度

お客様の課題：
□ 膜厚精度かつ、防錆性の必要
□ 母材の激しい熱変形への耐性があり、黒色であることの必要
□ 直動レールやボールネジといった摺動部品や、歯車やベアリングと
 いった機械要素部品の、摺動による磨滅に対して防錆性の維持
□ 1 ㎛以下での成膜、かつ光学吸収性の必要

使用実績：
□ 直動レール
□ ボールネジ
□ 機械要素部品
□ ヒーターブロック
□ ヒーターコマ
□ 吸着ノズル
□ バネ類
□ 光学マスク
□ 真空パーツ
□ 放射線環境下治具類