日本セミラボ

エピ膜測定装置EIR-2500の特徴とシステム仕様

• ウェハーサイズ：4～12インチ
• Si, SOI, SiC, SiGe, III Vなど
• FTIR機能
• エピ膜厚を高精度測定
• 遷移領域の膜厚測定
• 酸素濃度、炭素濃度測定
• ロードポート：シングルまたはデュアルカセットロードポート
• 高速マッピングステージ
• IR反射率測定ヘッドを使用可能（エピ膜厚用）
• 追加の測定ヘッドを使用可能（分光エリプソメーター、4PPなど）
• エッジグリップ（オプション）
• 測定モード：
  • 干渉波形モード：
    • 干渉波形を測定（干渉波形は直接反転法で分析される）。
    • 厚いエピ膜厚と単純な積層フィルムの高速測定用。
  • 反射率モード：
    • 反射率を測定。干渉縞を反射スペクトルで観察（干渉縞は積層の光学モデリングで分析される）。
    • 薄い（＜2μm）エピや、多層または勾配プロファイルを持つ複雑な積層用。

ソフトウェアの特長：

• Semilab Automation Manager（SAM）で測定サイクルを完全に制御
• SEMI勧告に基づくレシピベースの操作
• SECS/GEM、SECSII/GEM、CIMホスト通信規格（CMS、E87、STSなど）に準拠
• 測定干渉波形の高性能な評価：
  • 干渉波形減算が標準の分析法
  • 薄層の場合は反射スペクトルモデリングを用いた複雑な光学モデルで精度を向上
  • ケプストラム法