ヱビナ電化工業

大田区,  東京都 
Japan
https://www.ebinadk.com
  • 小間番号2043


半導体装置・部品関連の紹介を行っています。お気軽にお立ち寄りください。

半導体製造装置向け微細ガラス・セラミックス基板を展示しています。さらには長年の表面処理技術を発展させためっきによるヒートシンク加工・クリーンルーム対応の精密洗浄事業を行っています。


 出展製品

  • ガラス両面基板
    ガラス基板に数十μmサイズのスルホールを多数形成し両面基板を製作しています。インターポーザ・半導体製造装置基板向けに紹介しています。...

  • ガラスは透明・絶縁性・加工性に優れた材料です。ガラス基板に数十μmサイズのスルホールを多数形成しめっきによって両面回路基板を製作しています。独自の方法により数万穴の穴を短時間かつ滑らかに加工でき基板の加工と回路形成を一括で対応しています。実装部品の高集積化に貢献します。

  • セラミックス回路基板
    アルミナ・窒化アルミニウム基板に厚Cu回路を形成して放熱性の優れた基板としています。新たに切削加工性に優れたマシナブルセラミックスにも回路加工を行っています。...

  • 情報通信量の増加に伴い、放熱基板の需要も急速に拡大しています。アルミナ・窒化アルミニウムに厚Cu回路を形成して放熱基板として使用しています。さらには従来のセラミックスの課題であった難加工性を改善したマシナブルセラミックスを用いた回路基板も紹介しています。
  • マイクロ・フィン「スゴヒヱ」
    めっきによるヒートシンクフィンの紹介です。大面積を一括で加工し、さらには従来難しかった部品内側にもヒートシンク加工が可能です。...

  • 金属部品への放熱フィン加工は切削やレーザー加工が一般的ですが大面積には不向きでした。当社ではめっきによって高さ1~3μmのフィンを大面積に一括で形成し放熱性向上と低コスト化を実現しています。さらには従来難しかった部品内壁にもヒートシンクの形成が可能です。

  • 各種素材への精密洗浄
    ガラス・セラミックス・金属、各種素材へのクリーンルーム向け精密洗浄を行います。当社でのめっき・洗浄の一貫生産も可能です。...

  • 半導体回路の微細化に伴い製造装置に使用する部品のクリーン度要求も高くなっています。これらの要求に対応するため従来の表面処理技術を応用したクリーンルーム向け精密洗浄を行います。洗浄のみの他、めっき+洗浄処理の一貫生産も対応可能です。