エムエス機器

サーモエレクトリックチラー ThermoRack1201/1801

◆ペルチェモジュールによる熱電原理に基づいた温度制御方式で、素早い温度応答性と高い温度安定性で冷却/加熱を制御します。

◆±0.05℃の温度安定性でウエハー間、ロット間のバラつきを改善します。(First wafer effectの削減）また消費電力も従来のチラーに比べ、最大93 %削減できます。

◆駆動部はポンプと冷却ファンの2つだけなので、従来のチラーと比べて騒音、振動を低減して、故障によるシステムダウンも抑えられます。

◆19インチラックマウントタイプのコンパクトなデザインでクリーンルームの省スペース化ができます。

冷却能力200 W、300 W、400 W、500 Wの空冷式および、クリーンルームでも使用可能な、冷却能力350 W、600 Wの水冷式モデルをラインアップ。

＜アプリケーション＞

■半導体製造装置の温度コントロール

■レーザーの冷却

■ガス容器の温度コントロール

■走査電子顕微鏡

SWX100はインバーター方式の高効率ポンプによりプロセス側の循環水を最適な流量で制御、吸収した熱は、冷凍機冷却システムを使用せずに工場冷却水を使用して熱交換を行う循環冷却装置です。最大100 kWの冷却能力で±1.0 ℃の温度安定性を提供します

M75HFEはフッ素系溶媒に対応したチラーです。最大1600 Wの冷却能力で±0.15℃の温度安定性を提供します。ステンレス製プレート式ヒートエクスチェンジャーとホットガスバイパス方式を採用することにより高い温度安定性と優れた温度レスポンスを実現しています。液漏れのない配管及び継ぎ手を採用しており、さらにコンパクトなタンク容量を採用することにより高価なフッ素系不活性液体の使用量を抑えた設計になっています。

◆ヒートエクスチェンジャー搭載による高効率運転

◆SEMI S2規格対応オプションを用意

◆通信インターフェィスなど多様なオプションを用意