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・AsH3/PH3を対象とした高輝度LED・LD化合物半導体用乾式排ガス処理装置
・大流量NH3(GaNプロセス等)を対象とした触媒燃焼式排ガス処理装置
・各種排ガス処理装置(乾式・大気圧プラズマ・燃焼)
・排気生成物トラップや危険性の高い高純度ケミカル供給ユニット