オックスフォード・インストゥルメンツ

品川区,  東京都 
Japan
https://www.oxinst.jp/
  • 小間番号4039

オックスフォード・インストゥルメンツは、ALD(原子層堆積)、ALE(原子層エッチング)装置を開発・製造しています。また半導体アプリケーション(異物解析、不良解析、ラフネス評価)で求められる高度な解析・分析装置を提供しています。

プラズマテクノロジー

SiC・GaN 次世代半導体への期待と需要増が高まる昨今のマーケットに、SiCの製造工程において、OPEXを1/10まで削減し、環境にも配慮した「プラズマ研磨ドライエッチング (Plasma Polishing Dry Etching)」を代表した前処理工程に新たなソリューションをご提案いたします。CMP研磨と異なり非接触プロセスで歩留まりを改善、より薄いウェハ加工、そしてインゴッド当たりのウェハ―生産を向上します。

高成長市場たるSiC基板市場の需要を見据えたPPEDは、既にティア1のSiC半導体工場での実証実験を終え、従来のCMP研磨以上の性能を確認しています。

SEMICON Japan 2022ではオックスフォード・インストゥルメンツ プラズマテクノロジーの2022年8月プレスリリース後、世界各国のカンファレンスで発表したPPEDについて詳しく紹介いたします。

原子間力顕微鏡【実機展示】

Jupiter XR(ジュピターエックスアール) は、大型試料対応の原子間力顕微鏡(AFM/SPM)です。Jupiter XRが提供する「広域・高速スキャン」と独自の“blue Drive” 「光熱励振タッピング」により、従来 AFM の常識を覆すスピードと精度で、段差や粗さ測定を可能とします。また、「座標補正機能」・「サーベイ・スキャン」を利用することでナノメートルサイズの欠陥・異物を効率よく検出します。
測定時間にご不満を持つAFMユーザの方、是非Jupiter XRの実機をご覧ください。

EDS/EBSD

EDS(エネルギー分散型X 線分析装置)は、SEM, TEM, FIB内の試料の元素分析および化学組成分析を行う手法です。EBSD(電子後方散乱回折)分析法は、微細構造の特性評価のための非常に強力なツールです。当社のEDS/EBSDの特長や事例をブースでご紹介します。

共焦点ラマン顕微鏡

半導体や太陽電池の研究開発においては、通常基板上にデバイスが構築されます。デバイスに対して高度な品質と信頼性が要求され、デバイス構造の結晶特性と内部応力に対して詳細なデータを得ることが重要となっています。当社の装置は、化学特性、物理特性を総合的に分析することができます。

当社の装置は幅広い用途に使用でき、様々な観察手法が可能で観察結果から多くの試料に対する情報を得ることができます。顕微鏡システムとして可能な組み合わせは、共焦点ラマン顕微鏡、原子間力顕微鏡(AFM)、近接場光学顕微鏡(SNOM)、電子顕微鏡(SEM)があります。共焦点ラマン顕微鏡は化学情報を、AFMは表面形状/構造、硬さ/吸着力などの物理特性を、SNOMは光学回折限界を超える高分解能光学像を得ることができます。すべてのWITec装置はお客様のご要望に応じて機能をアップグレードすることができます。


 出展製品

  • Ultim® Max EDS検出器
    Ultim Maxは、次世代のシリコンドリフト検出器(SDD)です。最大のセンサーサイズとExtremeエレクトロニクスを組み合わせることで、比類のない速度と感度を実現。大型SDDセンサーは、精度を落とすことなく、最大17倍のデータを同時に収集可能。より広範囲のマッピング、各データポイントでより優れた統計データの取得、より速いデータ収集など、SEMでのX線分析のための究極のソリューションです。...

  • Ultim Max EDS検出器は、ハイエンドの技術を用いて、精度や品質に妥協することなく、比類のない速度と感度を実現しています。このシリーズの検出器は、最大のセンサーサイズ(最大170mm2)とExtremeエレクトロニクスを組み合わせて、優れた性能を実現しています。

    低エネルギーX線(CKaおよびFKa)および高エネルギーX線(MnKa)での性能を、すべてのセンサーサイズで同じ130,000cpsという生産性の高いカウントレートで保証しているのはUltim Maxのみです。性能は、出荷前にSEMでテストされ、設置時にもテストされます。最も厳しい分析条件(高カウントレート、低加速電圧、in-situ試験)でも、すべてのUltim Maxが優れた結果を実現することを保証します。

    すべてのUltim Max検出器は、電動スライド機構を内蔵し、必要なときに簡単かつ迅速に挿入でき、使用しないときには格納することができます。

  • Symmetry S3® EBSD検出器
    Symmetry S3は市場における唯一の純正オールインワンEBSD検出器で、革新的なSymmetry検出器をベースとした、最先端のCMOS技術を搭載した世界初のEBSD検出器です。すべてのEBSDアプリケーションに対応する優れた性能と、使いやすさ、革新的な機能設計を兼ね備えています。...

  • Symmetry S3は、カスタマイズされたCMOSセンサーと光ファイバーを使用して、スピード、感度、精細な回折パターンのユニークでパワフルな組み合わせを実現しています。 Symmetry S3は、AZtecソフトウェアとの組み合わせにより、あらゆる材料、あらゆる測定において優れた性能を発揮します。 最速5700ppsを超えるSymmetry S3の分析速度は、テクスチャと粒度の特性評価を数秒で可能にしますが、高いビーム電流を必要としたり、パターン分解能を犠牲にすることなく達成されます。 これは多相軽金属合金や変形鋼のような困難な試料でも、このような高速化が可能であることを意味します。

    さらにSymmetry S3は、歪みのないメガピクセル解像度のEBSPを収集して、詳細なひずみ・結晶相解析を行うことができます。ソフトウェア制御の検出器チルト(ダイナミックキャリブレーション機能あり)や独自の近接センサーなどの革新的な機能により、あらゆるアプリケーションに適した検出器です。

    Symmetry S3は、優れた性能と使いやすさを兼ね備えており、すべてのEBSDアプリケーションに理想的な検出器です。特長は以下の通りです。

    • 156 x 128ピクセルのEBSDパターン分解能で5700pps以上の指数付け速度を保証
    • 最大1244 x 1024のパターンピクセル解像度 – 高角度分解能 (HR) EBSDに最適
    • サブピクセルレベルのパターン歪みを持つ特徴的な光ファイバー接続
    • 優れた感度、あらゆるタイプの分析に有利
    • ソフトウェア制御による検出器チルト機構
  • Jupiter XR 大型試料対応 AFM/SPM(原子間力顕微鏡)
    Jupiter XR は大型試料対応の原子間力顕微鏡(AFM/SPM)で、原子・分子レベルの「超高分解能」に加え、「高速スキャン」「広域スキャン」を兼ね備えた、基本性能に優れたAFMです。革新的かつ堅牢な最新設計に加え、独自のblue Drive 光熱励振タッピングにより、安定した再現性の高い測定が可能で、ナノラフネス 粗さ測定において、15時間 1000枚の連続測定を可能にします。...

  • 主な特長:

    • 従来のステージ型AFMを凌駕する最新設計とテクノロジー
    • blue Driveタッピングと堅牢設計による安定した再現性の高い測定
    • 超高分解能・高速スキャン・広域スキャンを単一のスキャナで達成(スキャナの交換不要)
    • 原子・分子レベルの空間分解能
    • 最速 数十Hzの高速スキャン
    • 広いスキャンレンジ(100µm)
    • こだわりの光学顕微鏡設計と、操作性に優れたNewソフトウェア『Ergo』
  • alpha300 apyron – 自動化ラマンイメージング顕微鏡
    次世代 alpha300 apyron – 自動化の新しいレベルを体験。alpha300 apyron は、WITec顕微鏡シリーズの中で最高位のラマンイメージングシステムです。装置の制御と決められた測定手順を自動化することで、使いやすさと究極の機能を兼ね備えています。これにより、観察手順が合理化され、比類のない速度、感度、解像度で再現性の良い結果が得られます。...

  • 最大限の自動化
    2015年の初登場以来、alpha300 apyron は、WITecの完全自動化されたハイエンドラマン顕微鏡として確立しています。WITecの apyronシステムは、特に自動化とユーザーの快適性において、常に最新の機能を備えた開発を行っています。

    自動化とは
    alpha300 apyron は、装置のキャリブレーションからラマン測定、データ解析までのワークフロー全体が完全自動化されており、リモートコントロールが可能です。試料を交換する場合を除いて、顕微鏡に触れる必要はありません。

    最適化されたパフォーマンス
    alpha300 apyron は、比類のないイメージング品質で自動ラマンイメージングシステムの指標となっています。 同時に、最高のスペクトルおよび空間分解能、測定速度、信号感度を提供します。装置の全ての部分は、最高の透過効率と精度に最適化されています。さらに、モジュール設計によりシステム構成の自由度が保証され、アプリケーションの要求が変わっても、仕様要求を満たすことができます。豊富な種類の励起レーザー、 超高スループット分光計(UHTS)、検出器が選択可能です。

  • PlasmaPro 100 Cobra ICP Etch
    PlasmaPro 100 シリーズのエッチングおよびデポジションのツールは、多様な基板電極に適応でき、広範囲の温度に渡るプロセスが可能です。200 mmサイズのプラットフォームにより、単一ウェハーおよび複数ウェハーのバッチ処理ができます。このプロセスモジュールは、優れた均質性および高スループット高精度のプロセスを実現します。...

  • このツールは、多くの実績を持ち、90%以上の稼働率で、ウェハー装入時の迅速な立ち上がりが確実に保証されたプロセスが実現します。PlasmaPro 100シリーズは、MEMSやセンサー、光電子工学、個別素子、ナノ技術を含む、多くの市場分野に適用でき、それ以外にも対応できます。研究開発に活用できる柔軟性を持つとともに、製造ニーズにも対応できる構造も備えています。

    • 広い電極温度範囲:-150℃~400℃
    • 最大200mmサイズまでの、全てのウェハーが適合可能
    • ウェハーサイズの迅速な交換が可能
    • 所有コストが低く、保守が簡単
    • 専有面積がコンパクトで、柔軟性のあるレイアウト
    • その場チェンバー洗浄および終端決定が可能