・AsH3/PH3を対象とした高輝度LED・LD化合物半導体用乾式排ガス処理装置
・大流量NH3（GaNプロセス等）を対象とした触媒燃焼式排ガス処理装置
・各種排ガス処理装置（乾式・大気圧プラズマ・燃焼）
・排気生成物トラップや危険性の高い高純度ケミカル供給ユニット