システムズエンジニアリング

文京区,  東京都 
Japan
https://www.systems-eng.co.jp/products/semi_ftir_products.html
  • 小間番号3522


分光分析の挑戦！

光計測から半導体産業を支える

システムズエンジニアリングは、サーモフィッシャーサイエンティフィック社のリサーチグレードFT-IRとジェーイーエル社の自動搬送システムを搭載した次世代型FT-IR"SE-50シリーズ"を製造しています。

N2によるパージ性能と測定効率を追求し、業界最高水準の高精度計測が可能です。

SE-50シリーズでは、お客様の目的に合わせた多彩なアプリケーションをご用意しています。

  • Wafer測定

　　・EPI膜厚

　　・シリコン中の炭素・酸素濃度

　　・BPSG膜中のリン・ボロン濃度

　　・SiN膜中の水素濃度

　　・シリコン酸化膜中のフッ素濃度

　　・非拡散層膜厚

　　・その他カスタマイズ

  • インゴット測定

　　・酸素濃度

ブースでは、SE-50シリーズの特長をご紹介しています。

ぜひお立ち寄りください。

 出展製品

  • SE50-ECO 300SF
    ・8-12インチウェーハ対応 ・シングルFOUP ・真空吸着ロボット搬送システム ・OHT/AGV対応可 ・直感的な操作可能なソフトウェア制御 ・安全規格対応モデル(SEMI-S2、CEマーキング)...

    • 対応アプリケーション

    • エピ膜厚測定

    　　　測定範囲: 0.3-750 μm

    　　　再現性: ±0.01 μm

    • シリコン中の炭素・酸素濃度測定

    　　　測定範囲(Cs): 0.1-10 ppmA

    　　　測定範囲(Oi): 0.3-35 ppmA

    　　　再現性(Cs): STD 0.05 ppmA

    　　　再現性(Oi): STD 0.08 ppmA

    • BPSG中のリン・ボロン濃度測定

    　　　測定範囲(B): 1-10 Wt%

    　　　測定範囲(P): 2-12 Wt%

    　　　再現性(B/P): ±0.05 Wt%

    • SiN膜中の水素濃度(Si-H/N-H)測定

    　　　測定範囲: 3-30 Atom%

    　　　再現性: ±0.3 Atom%

    • シリコン酸化膜中のフッ素濃度測定

    　　　膜厚範囲: 3000-10000Å

    　　　再現性: STD<0.2 Fwt% 

    • カーボンドープ酸化膜の評価

    　　　窒化シリコン

    　　　酸化シリコン

  • SE50A-ECO 200SMIF
    ・8インチウェーハ対応 ・シングルSMIF ・真空吸着ロボット搬送システム ・OHT/AGV対応可 ・直感的な操作可能なソフトウェア制御...

    • 対応アプリケーション

    • エピ膜厚測定

    　　　測定範囲: 0.3-750 μm

    　　　再現性: ±0.01 μm

    • シリコン中の炭素・酸素濃度測定

    　　　測定範囲(Cs): 0.1-10 ppmA

    　　　測定範囲(Oi): 0.3-35 ppmA

    　　　再現性(Cs): STD 0.05 ppmA

    　　　再現性(Oi): STD 0.08 ppmA

    • BPSG中のリン・ボロン濃度測定

    　　　測定範囲(B): 1-10 Wt%

    　　　測定範囲(P): 2-12 Wt%

    　　　再現性(B/P): ±0.05 Wt%

    • SiN膜中の水素濃度(Si-H/N-H)測定

    　　　測定範囲: 3-30 Atom%

    　　　再現性: ±0.3 Atom%

    • シリコン酸化膜中のフッ素濃度測定

    　　　膜厚範囲: 3000-10000Å

    　　　再現性: STD<0.2 Fwt% 

    • カーボンドープ酸化膜の評価

    　　　窒化シリコン

    　　　酸化シリコン

  • SE50A-ECO 200SS
    ・4-8インチウェーハ対応 ・シングルカセット ・真空吸着ロボット搬送システム ・直感的な操作可能なソフトウェア制御 ・省スペースモデル...

    • 対応アプリケーション

    • エピ膜厚測定

    　　　測定範囲: 0.3-750 μm

    　　　再現性: ±0.01 μm

    • シリコン中の炭素・酸素濃度測定

    　　　測定範囲(Cs): 0.1-10 ppmA

    　　　測定範囲(Oi): 0.3-35 ppmA

    　　　再現性(Cs): STD 0.05 ppmA

    　　　再現性(Oi): STD 0.08 ppmA

    • BPSG中のリン・ボロン濃度測定

    　　　測定範囲(B): 1-10 Wt%

    　　　測定範囲(P): 2-12 Wt%

    　　　再現性(B/P): ±0.05 Wt%

    • SiN膜中の水素濃度(Si-H/N-H)測定

    　　　測定範囲: 3-30 Atom%

    　　　再現性: ±0.3 Atom%

    • シリコン酸化膜中のフッ素濃度測定

    　　　膜厚範囲: 3000-10000Å

    　　　再現性: STD<0.2 Fwt% 

    • カーボンドープ酸化膜の評価

    　　　窒化シリコン

    　　　酸化シリコン

  • SE50S-ECO
    ・2-8インチまたは6-12インチウェーハ対応 ・ステージタイプ ・ウェーハ内自動多点測定システム ・直感的な操作可能なソフトウェア制御...

    • 対応アプリケーション

    • エピ膜厚測定

    　　　測定範囲: 0.3-750 μm

    　　　再現性: ±0.01 μm

    • シリコン中の炭素・酸素濃度測定

    　　　測定範囲(Cs): 0.1-10 ppmA

    　　　測定範囲(Oi): 0.3-35 ppmA

    　　　再現性(Cs): STD 0.05 ppmA

    　　　再現性(Oi): STD 0.08 ppmA

    • BPSG中のリン・ボロン濃度測定

    　　　測定範囲(B): 1-10 Wt%

    　　　測定範囲(P): 2-12 Wt%

    　　　再現性(B/P): ±0.05 Wt%

    • SiN膜中の水素濃度(Si-H/N-H)測定

    　　　測定範囲: 3-30 Atom%

    　　　再現性: ±0.3 Atom%

    • シリコン酸化膜中のフッ素濃度測定

    　　　膜厚範囲: 3000-10000Å

    　　　再現性: STD<0.2 Fwt% 

    • カーボンドープ酸化膜の評価

    　　　窒化シリコン

    　　　酸化シリコン

  • SE50-OIP
    ・200mm/300mm径インゴット対応 ・インゴット長は最大3000mm ・自動多点測定 ・直感的な操作可能なソフトウェア制御...

    • 対応アプリケーション

    • インゴット中の酸素濃度測定

    　　　測定範囲: 0.3-35 ppmA

    　　　再現性: STD 0.08 ppmA

    ​

Categories

203 装置、検査及び測定
  • Ｘ線：ＸＲＦ/3次元Ｘ線/レキシスシステム
  • ウェーハ：基板測定/トポロジ/ナノトポグラフィ/平坦度測定/結晶方位
  • 分光計：フーリエ変換赤外分光（FTIR)/減衰全反射FTIR(ATR-FTIR)/オージェ電子(AES)/SIMS
  • 膜厚：厚さ/均一性測定/エリプソメーター
    • Loading ...

    :
    :


    Legend
    Available Timeslot
    Scheduled Appointment
    Personal Appointments
    Appointment Request
    Blocked Timeslot
    Restricted Timeslot
    Cancelled
    Declined