次世代膜厚測定装置を出展 最大9層の膜厚を非接触測定、0.01～700µmの膜厚を高分解能測定。 当ブースにお越しください。
多層膜の各層の膜厚を高速・高精度に測定できる分光式膜厚計（光干渉式膜厚計）を出展します。
薄膜の全数検査や真のイン・サイチュ(その場)測定を可能にします。
【汎用膜厚モニタ】
ファイバー式膜厚モニタは、色収差の無い小型反射プローブを採用し、プロセス装置内への組み込みが容易です。また、オプションで無線対応，自動マッピング測定に対応しています。薄膜の全面検査や、プロセス中の終点検出センサとして使用可能です。白色LEDランプ，タングステンハロゲンランプ，重水素ハロゲンランプの３種類のランプを選択可能です。測定膜厚範囲は10nm～300μｍまで対応しています。
【汎用膜厚モニタ（赤外線透過タイプ）】
赤外線透過タイプは、バッテリのセパレータ等の半透明シートやブラックレジストなどの低反射膜・シリコンなどの厚さを測定します。小型ミラープローブで構成された透過光学系を採用した赤外線膜厚計で、256点の波長を同時分光することで膜厚密度など複数のパラメータを高速に測定できます。
【自動マッピング膜厚計】
最大300mmウェハまでの全面自動マッピング膜厚測定が可能です。θステージと組み合わせ小型・軽量で高精度な膜厚測定を可能にします。自動アライメント機能、自己較正機能、平坦度の高いチャックの採用により、信頼性の高い膜厚測定が可能です。ファイバー式膜厚モニタと組み合わせて使用します。
ブースでは、実際に成膜ウェハをマッピング測定する様子をご覧いただけます。
【イメージング膜厚計】
イメージング膜厚計は、顕微画像分光式による膜厚モニタで、1ミクロン以下の微細なパターン上の膜厚分布を３D可視化することが可能です。半導体の実デバイス上の複雑な多層構造の測定が可能です。ダイ内の特定領域内の膜厚・膜質分布を管理可能で、高精度な欠陥検査装置としても利用可能です。微細なトレンチや段差など凹凸のある複雑な構造や荒れた膜を測定することが可能です。
ブースでは、サンプル測定した結果を３D表示している模様をご覧いただけます。
特徴
メリット
①成膜条件出しに関わる時間を大幅に短縮します
②再現性の高い成膜が可能になります
③成膜中の膜の変化を記録できます