当社の展示ブースでは、前工程の重要なプロセスとなる露光装置のパネル・動画や当社装置で作成したサンプルを展示しております。
株式会社大日本科研では、半導体・電子部品用露光装置の製造をメインに、設計・製作からメンテナンスまで一貫したサービスを行っております。今回はφ200/300mm対応のマスクアライナーや、卓上サイズのデスクトップアライナー、フォトマスクを必要としないマスクレス露光装置をメインとして、各種露光装置をパネルや動画にて展示・ご紹介いたします。研究、試作に最適なデスクトップアライナーに関しては実機展示もいたしますので、実際に操作して触って頂くことも可能です。露光装置をお探しの方、また露光工程でお困りの方がおられましたら、是非当社ブースにお立ち寄りください。皆様のご来場を心よりお待ちしております。
・研究開発・試作・小ロット生産などの用途に最適。
・フォトマスクを必要とせず、開発コストやリードタイムを短縮。
・CADデータの変更なく線幅補正が可能。
・露光データとタイトリングデータの同時加工が可能。
・独自の高速画像処理技術でウェハとマスクを高精度にアライメント
・オートマスクチェンジャを搭載し、マスクライブラリも対応可能
・非接触型プリアライナを搭載し、基板を傷つけることなく高精度な送り込みを実現
・独自の平行補正機構により、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度に制御
・独自のミラー光学系ランプハウスを搭載。照射面内均一性、高精度を実現
・ローダ、アンローダ側にカセットを各2個までセット可能（オプション）
・冷却機構により基板ステージとマスクの温度管理が可能（オプション）
・試作、研究用に最適で環境にも配慮した安価な卓上露光装置
・実験・研究用途に最適で、デスク上に設置できるコンパクト設計(600×600㎜)
・UV-LEDランプハウスを標準搭載(有効露光範囲Φ4")
・コンタクト露光タイプ(オプションで他の露光モード対応可)