高千穂商事

渋谷区,  東京都 
Japan
http://www.takachiho.biz
  • 小間番号5610

ALD用有機金属系材料を始めとする半導体材料、エキシマレーザーガス、液体材料供給装置、可搬式除害装置を展示致します。

当社は1969年 日本で初めてイオン注入用高圧ガスの輸入と取り付け、交換作業を実施しておりました。今回、日本初 独自の技術を使った吸着型負圧ガスソースを製造から販売まで実施を致します。ぜひ当社ブース(前工程ゾーン 小間番号5410)へのご来場をお待ちしております。

吸着型負圧ガスイオン注入ソースを国内製造販売開始

  • 1969年年:日本初のイオン注入用高圧ガスの輸入と取り付け
  • 1980年代:日本初のイオン注入用高圧ガスの国内製造を始め、多くの半導体メーカーに納入が行われ、日本のインプラガス市場が国産品に入れ替わった
  • 1990年代:当社のインプラガスのシェアは常に70%以上となり、インプラガス交換作業もフル稼働していた
  • 1994年:米国でマチソン社がSDS1、ゼオライトベースの吸着型負圧ガスソースを上市
  • 1995年:日本の半導体メーカーから吸着型負圧ガスソースの開発と国産製造を依頼された
  • 1996-1997年:日本初の、カーボンベースの吸着型負圧ガスソース、高千穂がTionを開発、上市、特許も出願
  • 2000年:高千穂Tionが日本の特許を取得、これはSDS2の日本の特許取得より早かった
  • 2001年:米国マチソン社とATMI社と当社3社のクロスライセンス契約を締結、こと締結を実施したことにより、高千穂はTionを製造および販売せず
  • 2001~2020年の間は日本国内のSDSの製造および販売は高千穂が実施してきました
  • 2020年12月を以ってインプラ用SDSの製造契約を終了
  • 2021年6月を以って製造自体も終了致しました
  • 2021年高千穂は日本初 国産品で独自の技術を使った吸着型負圧ガスソース T-ionTMを製造から販売まで実施し、半導体メーカー様のお役に立てるサービスを提供いたします

72GeF4 (72エンリッチ四フッ化ゲルマン)

  • 高千穂ではイオン注入装置に使用しているGeF4の中で自然存在比が高いのは72Geです。その72Geの濃度を高めた高千穂のエンリッチ72GeF4は、製造スループット向上に貢献します。また、72Geを選択することにより、Asコンタミの影響を排除できます

11BF3 (11エンリッチボロン)

  • 国内企業で唯一、複数のソースから安定供給を受けており、価格競争力、供給安定性、在庫量に自信があります。貴社の装置に合わせた適切な容器サイズにて供給いたします

エッチングフロン

  • 半導体用エッチング、クリーニング用フロン系ガス,オゾン層を破壊と言われているフロン系ガスですが、地球温暖化係数をより少なくすることにより、地球環境にやさしいガスを紹介致します

エキシマレーザーガス

  • 当社では、1997年よりエキシマレーザー用F2ミックスガスを販売しており、世界中から独自に調達ルートを確保したネオンによる混合ガスも承ります。
    貴社ご希望の濃度に合わせて製造致しますので、ご相談ください。
    (Kr/Ne , Ar/Kr/Ne , Xe/Ar/Ne , F2/Kr/Ne , F2/Ar/Ne , Xe/Ne , HCl/H2/Ne)

ALD用先端有機金属系材料

  • 薄膜を形成させるためのALD(Atomic Layer Deposition)を多種用途にあわせご紹介致します。試作研究用50mlから製作が可能となりますので、ぜひご覧ください。

ハザードスイーパーTM

  • 日本で唯一の可搬式局所排気用(モバイル)除害クリーナーです。特殊材料ガスの供給装置、機器の改造、チャンバークリーニング、撤去作業など毒性ガスを使用する現場を安全にクリーンな環境に維持できます。可搬式のため、複数の同一ガス設備に対して1つのハザードスイーパーTMで対応できます。さらにミストスクラバーTM(当社製品)を接続することで可燃物を吸引した際の安全性を向上できます

SiC用(パワー半導体)窒素フリーガス

  • SiC基板において,ドーパントとして作用する窒素を極限まで除去したZero Nitrogen (ZeN) グレード製品のご紹介。気相成長用高純度プロパン、エチレン、プロピレンなどのハイドロカーボン、ドーピング用各種シランなどの窒素フリー化に取り組み N2濃度として高純度EXプロパンC3H8 (残留N2濃度0.5ppm未満)、高純度モノシランSiH4 (残留N2濃度0.1ppm未満)を販売中。保証のみならず、残留濃度の実測値報告サービスも行います。さらなる低濃度製品の研究・開発にも取り組んでおります。窒素を始め、貴社で監視したい不純物をお教えください。
  • セミコンジャパンでは唯一のガスメーカーとして出展を継続しております。
  • ぜひご来訪をお待ちしております

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