半導体製造に貢献する中外炉の熱処理設備・塗布装置を豊富な製品ラインナップよりご提案いたします。
温度分布
炉内に断熱材を使用しないためクリーン性が高く、ヒータ配置を工夫することで高温域でも高い均熱性を実現しました。ご要望に応じたオーダーメイド設計が可能で、炉だけでなく前後装置や自動搬送システムもご提案いたします。多彩なデータ分析が可能な監視システムも搭載しています。
独自の幅替え機構で様々な異形状塗布が可能。また全量塗布方式により液ロスを極限まで低減(使用効率90％以上)。高粘度塗布液・厚膜塗布にも対応し、膜厚数百µmでも重ね塗りが不要です。塗布液の裏まわりがないため、エッジリンスやバックリンスが不要で高いスループットも実現しています。
幅広い温度域で、短時間かつ均一に加熱が可能です。酸化/還元が自由自在で、燃焼なしの酸化反応も起こせます。
緩やかな回転、攪拌による加熱技術で炉内加熱の均一化を実現しました。小さなフットプリントで大容量の処理が可能です。また温度の昇温／降温プログラム設定により、様々な条件下での加熱処理が可能です。