パナソニック コネクト

  • 小間番号3139


プラズマダイシングをはじめ、最新のプロセス技術をご紹介いたします。 複数のサンプルも展示しています。是非、ご来場ください。

プラズマダイサー、ドライエッチャー、プラズマクリーナー、デバイスボンダー、バンプ印刷機、スパッタ、インクジェット装置、を展示。

近年、多様化が進む半導体デバイスの2.xD、3Dパッケージの高品質ものづくりに貢献する技術、装置をご紹介します。
最新のデバイス(パワーデバイス、MEMS、通信デバイス、LED、レーザー、ディスプレイデバイス等)に用いる独自技術やノウハウ、豊富なアプリケーション実績、ウェハーレベル・パッケージング技術を始め、多様化する先端半導体パッケージングの高品質・安定生産に実現するための工法・装置の安定稼働を実現する分析技術(プロセスコントロール)のご提案を説明いたします。

スパッタ装置は、独自のMPスパッタを始めとしてパナソニックで長年蓄積してきたスパッタリング技術で、ポーラスな膜からち密な膜まで幅広い膜質を実現、成膜での困り事やデバイス進化に寄り添ったご提案をいたします。

また、インクジェット装置は、最大粘度200mPa・sまでのインク材料の吐出可能な高粘度インクジェットヘッドをご紹介します。半導体レジストを材料のロスなく、オンデマンドでパターニング印刷することも可能です。

今回、初出展となる展示も、多数、ご用意しております。パナソニックブースまで、是非、ご来場ください。


 出展製品

  • 多層膜スパッタリング装置
    多層・積層成膜プロセスの改善により電子部品の品質強化と生産性向上に貢献します。...

  • (特徴)
    ・ロータリタイプとマルチチャンバタイプの装置形態を準備
    ・T/S距離の自動調整機構により長期間に亘り高膜厚均一性を維持
    ・独自のプラズマ制御(MPスパッタ)技術によりスパッタリング薄膜の特性を向上
    ・ご要望の成膜プロセスにお応えする多様なユニットが搭載可能
    ・開発工程~量産工程までの様々な用途に対応
  • 高粘度インクジェット装置
    パナソニックで培ったインクジェット技術をもとに研究開発~量産設備までインクジェット設備のご要望にお応えします...

  • (特徴)

    • 耐食性に優れた材料構成で、幅広いインク種に対応
    • 大粒子(Max1μm)、高粘度(非加熱Max200mPa・s)まで対応
    • ノズル近傍インク循環で目詰まりを抑制し、安定吐出)
  • ドライエッチング装置APX300-S、APX300
    8インチまで対応可能な枚葉処理のシングルチャンバー装置APX300-Sと、ダイレクト吸着可能な独自のバッチ処理装置APX300を出展します。APX300-Sには、3種類のプラズマ源が選択可能で、オプション対応で、エッチング後のポスト処理(アッシング、リンス洗浄)を付加することが可能です。...

  • ・ドライエッチング装置APX300-S 

    本装置の特徴としては、パワー半導体、光通信・高周波通信、RFモジュール、MEMS向けの各種プロセスアプリケーションに応じて、様々な仕様を選択・最適化ができることです。プラズマ源は用途に応じて3種類から選択ができます。2~8インチのウエハや、各種の特殊基板への対応も可能です。更に、ポストエッチング処理として、プロセスアプリケーションに応じて、アッシング室とリンス室の拡張が可能となっております。

    ・ドライエッチング装置APX30​

    本装置は、全自動のバッチ処理ドライエッチング装置です。300㎜ウエハサイズに拡張したAdvanced-MSC-ICPプラズマ源と、弊社独自のマルチESC電極を用いて、複数ウエハを一括して高速に加工することが可能です。インライン移載機や上位通信機能へも対応しており、大量生産、自動化に貢献しております。

  • プラズマダイシング装置APX300-DM、APX300-PD
    パナソニックコネクトのプラズマダイシング装置は、テープおよびリングフレームに ダメージなくプラズマ処理することが可能なハードウェアおよびプロセスを実現しています。 弊社では、プラズマダイシングの全工程を検証できる実証センターを保有しており、 ご要望の加工ニーズに応じた、トータル的なプロセス提案が可能です。...

  • ・プラズマダイシング装置 APX300-DM

    本装置は、300㎜/200㎜リング付きウエハ対応のシングル機です。搬送モジュールと一体化しており、R&Dおよび多品種少量から大量生産に最適な装置としてご利用いただけます。SECS/GEMなどの上位通信に対応可能です。

    ・プラズマダイシング装置 APX300-PD

    本装置は、300㎜ウエハ及び300㎜リング付きウエハに対応したマルチシステム装置です。最大4chまで拡張可能な構成で、半導体工場の自動化システム(OHT)に対応しております。GEM300,EDAなどの上位通信に対応可能です。プラズマ源は、プラズマダイシング向けの独自技術により、高速・高均一性加工を実現しております。

  • プラズマクリーナーPSX307シリーズ、フリップチップボンダーMD-P300/200US2
    パナソニックコネクトのプラズマクリーナーは5種類のガス種に対応し、様々なプロセスで表面残渣除去、ボンディングの接合性向上、モールドやアンダーフィルの密着性向上などのお役立ちをいたします。 また、フリップチップボンダーは、最先端デバイスの高速・高品質実装を実現し、低コスト化します。 クリーナーとボンダーをセットでご提供することで、お客様のプロセスの品質向上・課題解決に最大限の貢献をします。 ...

  • <プラズマクリーナー>

    並行平板式のチャンバのため高い均一性があり、物理的な反応を活用したプラズマ処理も可能で、高エッチングレートでの処理も可能です。5種類の多様なガス種に対応しており、有機汚染物、Ni化合物などの無機汚染物、酸化膜、シロキサンなどさまざまな物質を除去し、プロセスの品質を向上します。

    ・プラズマクリーナー PSX307-S/M

    PSX307-S/Mは基板用のプラズマクリーナーです。Sタイプは特にAuやフォトレジストの除去パフォーマンスが高く、Mタイプは大型基板・キャリア搬送向けのチャンバを備えています。また、この二機種は独自の搬送機構で、薄型基板・反りのある基板にも対応しています。

    ・プラズマクリーナー PSX307A

    PSX307Aはウエハレベルプロセス向けのプラズマクリーナーです。ウエハリング有無どちらにも対応しています。昨今、デバイスの小型化・薄型化によってウエハレベルパッケージの用途が広がっており、ウエハ表面のクリーニングを行うことで、モールドの樹脂残渣などの除去、ボンディグやバンプの密着性向上などにお役立ちします。本製品は300mmウエハ(リング有/無)はもちろん、JEDECトレイ×2列や、77.5mm幅×4列なども処理可能で、さまざまなニーズにお応えします。

    ・データ分析アプリケーション PSX307-HSA

    プラズマクリーナーPSX307の設備状態を可視化し、予知保全を支援するサービスです。設備状態をスコア化し、最適な時期のメンテナンスをご提案することで、安全に、ムダなく設備をお使いいただけます。最大100台までの状態確認が可能です。すでにお使いのプラズマクリーナーPSX307に適用可能で、特殊な改造は不要です。

    <フリップチップボンダー>

    ・フリップチップボンダー MD-P300

    MD-P300は300mmウエハに対応したフリップチップボンダーです。定点ピックアップ&定点実装を基本構造とし、5,500CPHの高い生産性を有しています。ツール交換でプロセスの変更が可能です(GGI/C4/TCBに対応可)。フリップカメラによってチップ裏面の認識結果をフィードフォワードすることで±5μmの高精度実装を実現します。CMOSイメージセンサ、各種プロセッサ、MEMS,パワーデバイスなどさまざまなICに対応します。

    今回、参考出展としてMD-P300の高精度版(±3μm)についても展示しておりますので、ぜひパナソニックコネクトのブースまでお越しください。

    ・フリップチップボンダー MD-P200US2

    MD-P200USは、最先端小型デバイス向けの超音波フリップチップ実装専用ボンダーです。最大200mmウエハ供給に対応した定点ピックアップ・定点実装を基本構造としています。独自の高剛性US加熱ヘッドによって高品質な金属接合を行います。また、リアルタイムUSモニタリング機能でトレーサビリティ等のプロセス管理も実現します。ポストボンド検査、バンプ検査、ノズル検査等の品質管理機能も充実しています。SAWデバイス、TCXO、LED、MEMS、パワーデバイス等の小型高付加価値デバイスの実装に最適です。