PICOSUN JAPAN㈱はMEMSデバイスの生産において近年特に重要視されている成膜技術であるALD（アトミックレイヤーデポジション）成膜装置をご案内いたします。
ALDは既存のPVD，CVD、蒸着等の成膜技術より下記の点において優れているため、急速に市場に浸透してきています。
例えば・・・
⇒ 段差被覆性に優れている
⇒ 膜厚が１原子層レベルで制御でき、膜厚分布が良い
⇒ バリア性が高く膜質が良い
⇒ 低温（e.g.１００℃）でも成膜できる
PICOSUN JAPAN㈱はALD専業装置メーカーであるフィンランドPicosun社の日本法人です。
ALD法はDr.Tuomo Suntolaによって発明され（現Picosun社役員、技術顧問）、装置設計は４０年以上、１５世代に渡っており、ALDの歴史そのものと言っても過言ではありません。装置は研究開発用から量産機、クラスター装置等幅広いラインナップとなっており、デバイス開発のサポートから量産まで幅広く対応しております。
ご来場ならびにお問い合わせ、お待ちしております。