ガスクラスターイオンビーム(GCIB)は、数千個のガス原子・分子が結合したクラスターを加速して照射する技術であり、我々の研究グループによる開発が進められてきた日本発の技術です。GCIBは、一原子・分子あたりのエネルギーを数eVに低減できるため、低損傷加工、高精度表面加工、高品位薄膜形成技術、表面計測技術に応用が進んでいます。また、反応性雰囲気ガスを導入すると、GCIBによる高温・高密度状態の形成により吸着した反応性雰囲気ガスと表面との反応が促進されます。本展示では、雰囲気ガス下でのGCIB照射を用いた低温・ハロゲンフリーエッチング技術を紹介します。