フィルメトリクス

横浜市港北区新横浜,  神奈川県 
Japan
https://www.filmetrics.co.jp
  • 小間番号2031


世界で5,000台以上の販売実績がある膜厚測定システムとコンパクトで低価格な３次元表面形状測定システムを実機展示致します

膜厚測定・表面形状測定のフィルメトリクスです。基板厚測定システムF3-sXと、自動マッピング膜厚測定システムF50と、この20年で培った光学測定技術のノウハウを駆使して完成させた白色干渉式の３次元表面形状測定システム プロフィルム３Dを展示致します。

 出展製品

  • F3-sX 基板厚測定システム
    シリコン基板やガラス基板の厚さを高精度で測定できます。 独自開発した高波長分解能の分光器を搭載することで、最大3㎜までの厚膜測定を可能にしました。 10μmの小スポット径で粗く不均一な膜の測定が可能になりました。 自動ステージを追加することで面内分布も簡単に測定できます。...

    • 主な特徴

    • シリコン基板やガラス基板の厚さを高精度で測定
    • 独自開発した高波長分解能の分光器を搭載！最大3㎜までの厚膜測定が可能
    • 10μmの小スポット径で粗く不均一な膜の測定が可能
    • 自動ステージを追加することで面内分布も簡単に測定

    主な用途

    半導体 シリコン基板、LT基板、Ti基板などの厚さ測定
    FPD ガラス基板の厚み、エアーギャップの測定
  • F50 自動マッピング膜厚測定システム
    F50自動マッピング膜厚測定システムは、光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステムです。 指定したポイントの膜厚を、従来では考えられなかったスピードで測定します。2インチから450mmまでの様々な基板に対応し、任意の測定ポイントを指定することが出来ます。 スポット径は１ｍｍ程度から0.２ｍｍ程度、顕微鏡光学系のシステムであれば、更に小さいスポット径で測定できます。 ご要望に応じてインターロックカバーを追加することも可能です。...

    • 主な特徴

    • 光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステム
    • 指定したポイントの膜厚，屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定
    • 2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、任意の測定ポイントを指定可能

    主な用途

    半導体 レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン、
    研磨後のシリコンウエハー、化合物半導体基板、ⅬT基板など
    フラットパネル セルギャップ、ポリイミド、ITO、ARフィルム、
    各種光学フィルムなど
    薄膜太陽電池 CdTe、CIGS、アモルファスシリコンなど
    LED アルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)、リン化ガリウム(GaP)など
  • Profilm3D 3次元表面形状測定システム
    白色光干渉技術を用いたシステムで、非接触で段差・粗さを含む三次元形状の測定ができます。 Profilm3Dは、三次元形状の測定に必要な機能を網羅し、コンパクトで従来品と比較して低価格を実現しています。 ミクロンオーダーの形状の測定に最適な垂直走査干渉法（WLI）と、ナノオーダーの形状や粗さの測定に最適な位相シフト干渉法（PSI）の両モードを備え、手動リボルバー、100ｘ100mmもしくは200ｘ200mmのXY自動ステージ、測定・解析・表示を行うソフトウェア、標準段差サンプルが標準装備されています。...

    • 主な特徴

    • 低価格！
      必要な機能を全て装備しながら低価格を実現
    • ナノメートルオーダーの高さ分解能
      位相シフト干渉法を採用し、高い分解能を実現
    • 充実の標準装備
      X-Y自動ステージ、手動リボルバー、自動光量調整、オートフォーカス機能
    • コンパクトな筐体
      本体のフットプリントは30×30cmとコンパクトな設計
    • WLIとPSIの両測定モードを搭載
      段差測定と粗さ測定の両方を1台で測定
    • 簡単操作
      基本操作は簡単なマウス操作だけ
    • ISOに準拠した粗さの測定
      国際規格 ISO25178 に準拠
    • 拡張性
      各種対物レンズの選択、データステッチング機能

    主な用途

    半導体 ウエハーバンプ、CMPパットなど
    医療分野 注射針、人工関節、ステントなど
    実装基板 銅配線、バンプ、レンズなど
  • F54 顕微式自動膜厚測定システム
    F54 顕微式自動膜厚測定システムは、微小領域での高精度な膜厚・光学定数解析機能と自動高速ステージを組み合わせたシステムです。2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、指定したポイントの膜厚、屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定します。 5倍から50倍の対物レンズに対応し、測定スポット径を1μmから100μmまで用途に応じて選択することが出来ます。...

    • 主な特徴

    • 光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステム
    • 5倍から50倍の対物レンズに対応し、測定スポット径を1μmから100μmまで用途に応じて変更可能
    • 2インチから450mmまでのシリコン基板に対応

    主な用途

    半導体 レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン、
    研磨後のシリコンウエハー、化合物半導体、ⅬT基板など
    フラットパネル 有機膜、ポリイミド、ITO、セルギャップなど
  • R50自動マッピングシート抵抗測定システム
    フィルメトリクスR50は、シート抵抗測定を搭載した自動マッピングシート抵抗測定システムです。４探針プローブは、薄い金属膜やイオン注入層の測定に適しており、渦電流プローブは、厚い金属層や表面が柔らかいサンプルの測定に適しています。...

    • 主な特徴

    • 金属膜厚・シート抵抗・抵抗マッピングを測定可能
    • 直感的で使いやすいインターフェースで、測定結果を2Dまたは3Dでマッピング表示
    • 豊富なプローブオプションで各種サンプルに対応

    主な用途

    半導体 バルクウェハー、化合物半導体、イオン注入サンプルなど
    フラットパネル ITOなど
    プリント基板 銅箔など

Categories

203 装置、検査及び測定
  • ウェーハ：基板測定/トポロジ/ナノトポグラフィ/平坦度測定/結晶方位
  • 光ファイバー検査装置
  • 分光計：フーリエ変換赤外分光（FTIR)/減衰全反射FTIR(ATR-FTIR)/オージェ電子(AES)/SIMS
  • 測定器/ベンチトップテスト
  • 膜厚：厚さ/均一性測定/エリプソメーター
  • 表面測定
  • 顕微鏡：光学顕微鏡
    • 205 装置、ナノテクノロジー
  • 装置/ナノテクノロジー機器
    • 206 太陽光発電装置
  • 検査と計量
    • 208 装置、テスト
  • 光学テスト装置
    • 308 材料、基板
  • 試験/モニターウェーハ：再生またはバージン
    • 700 製造サービス
  • 測定；検査サービス
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