法政大学 イオンビーム工学研究所

小金井市緑町,  東京都 
Japan
http://www.hosei.ac.jp/nano/
  • 小間番号1134


GaNパワーデバイス作製・評価で実績があります。また、高エネルギーイオン注入やRBSによる分析等の共同研究も承ります。

超低オン抵抗、世界最高耐圧と高破壊耐量のGaN自立基板上p-n接合ダイオードの技術情報展示。

イオン注入、RBS等のイオンビーム関連技術の展示。


 プレスリリース

  • これまで、日経産業新聞、SemiconductorTODAY誌、Compound Semiconductor誌等で紹介されていますが、世界最高耐圧の縦型GaN p-nダイオードの試作評価を受託研究や共同研究で実施しています。

 出展製品

  • 5kV耐圧GaN-on-GaNパワーダイオード
    GaN基板上に作製した5kV耐圧・低オン抵抗・高破壊耐量の縦型p-nダイオード...

  • 住友化学製の低欠陥密度GaN基板上にMOVPE法でエピタキシャル成長したp-n接合ウェハを用いて、2段メサ構造等の新技術を投入した低損傷プロセス技術を駆使して低オン抵抗・高耐圧・高破壊耐量の3条件を同時に満たすパワーダイオードの試作に成功しました。