レイデント工業

レイデントLSL(BL)／LSL-2FDu処理

【直動レール・ボールネジ】

使用目的：紫外線吸収性・黒色視認性（画像認識）・薄膜長期防錆・高密着性・耐ヒートショック・耐食性の向上・耐高真空性・薄膜高精度

お客様の課題：

□ 膜厚精度かつ、防錆性の必要

□ 母材の激しい熱変形への耐性があり、黒色であることの必要

□ 直動レールやボールネジといった摺動部品や、歯車やベアリングと

 いった機械要素部品の、摺動による磨滅に対して防錆性の維持

□ 1 ㎛以下での成膜、かつ光学吸収性の必要

使用実績：

□ 直動レール

□ ボールネジ

□ 機械要素部品

□ ヒーターブロック

□ ヒーターコマ

□ 吸着ノズル

□ バネ類

□ 光学マスク

□ 真空パーツ

□ 放射線環境下治具類

レイデントLSL（H）処理

【純黒色光学吸収膜】

使用目的：光学吸収性・耐軽紫外線性・耐レーザー変色・乱反射防止性・軽硬質耐摩耗性・耐軽有機溶剤性・耐高真空性・黒色意匠性

お客様の課題：

□ 黒色光学吸収性による乱反射防止（防眩性）

□ 有機セラミックス成分による軽面圧下での硬質耐摩耗性の必要

□ 宇宙空間や露光装置内での光学吸収を目的とする耐真空性や

 耐軽紫外線性の必要

使用実績：

□ レンズ筐体

□ 黒色ベース

□ 画像認識用治具類

□ 吸着ノズル

□ 光学部品

□ 光学マスク

□ 真空パーツ

レイデントLSL-2FDu処理

【高品質バリア膜】

使用目的：光学吸収性・潤滑性の向上・離型性・耐食性の向上・耐化学薬品・耐高真空性・耐アウトガス性

お客様の課題：

□ 強酸ガス雰囲気下でのバリア膜の必要

□ 高真空下での赤外線の吸収膜として、耐アウトガス性の必要

□ 潤滑性の向上

□ 耐食性の向上

□ 離型性の向上

□ 耐化学薬品（ガス雰囲気）

□ 光の吸収（赤外線の吸収性）

使用実績：

□ 直動レール

□ ボールねじ

□ 機械要素部品

□ 半導体製造装置部品

□ 吸着部品

□ バネ類

□ 各種製造装置治具類

□ 真空パーツ

レイデントLSL（H・E）処理

【静電対策帯電防止膜 】

使用目的：

・光学吸収性・耐軽紫外線性・軽硬度耐摩耗性・耐軽有機溶剤性・帯電防止性・準導電性・真空吸着治具類の脱着性向上

課題解決：

□ 液晶ガラス吸着操作ボード（処理実績数 = 約 3000 枚以上）を

初めとする帯電防止膜専用設計

□ 画像認識での光学吸収性を目的とした、吸着ノズルやベース

□ 微小電子部品の摺動性向上を目的とするパーツフィーダーや治具類

使用実績：

□ FPD 吸着操作ボード

□ 吸着ノズル

□ 吸着ベース

□ ローラー

□ パーツフィーダー

レイデントLSL-Cm4F処理

【薄膜硬質セラミクス膜 】

使用目的：耐熱性・高温安定性・溶融金属非粘着性・薄膜絶縁性・スパッタ防止・Cmタイプで耐熱1000℃（短時間）・耐摩耗性・紫外線吸収性・耐紫外線性・耐オゾン性・耐高真空アウトガス性

お客様の課題：

□ 高温（400℃）環境下で使用されるシューターの耐熱性、潤滑耐摩耗

 性（24h 連続）の必要

□ 溶接及びレーザー環境下での耐熱性、およびスパッタ付着防止の必要

□ リフローブロック：溶融金属の非粘着性、および黒色膜による輻射熱

 吸収の均一性の必要

□ 高強度の紫外線吸収、および耐熱性が求められる光学装置内ベース

使用実績：

□高温（400℃）環境下で使用されるシューターの耐熱性、潤滑耐摩耗性（24h連続）

□溶接及びレーザー環境下での耐熱性、スパッタ付着防止

□リフローブロック：溶融金属の非粘着性、黒色膜による輻射熱吸収の均一性

□高強度の紫外線吸収、耐熱性が求められる光学装置内ベース