天谷製作所へようこそ。金属酸化膜成膜用常圧CVD(APCVD)装置・高精細対応フォトマスク洗浄装置を製造しています。
常圧CVD(APCVD)装置
●半導体（ウェハ・パワーデバイス・オプト）・電子部品・MEMS等、
様々な用途に対応した、酸化膜成膜装置です。
●高成膜レート・高稼働率・簡易メンテナンス・低CoOが特長です。
●SiO2(NSG,USG)・BPSG・PSG・BSG・AlOx膜等の成膜が可能です。
【連続式常圧CVD装置】AMAX1200・AMAX800V・AMAX800V2
○小口径から12"用までラインナップ
○高スループット生産（8": ～100枚/時・12": ～56枚/時）
○SiCトレー等の採用により、メタルコンタミネーションを抑制
【枚葉式常圧CVD装置】 A200V・A300V
○12"用を新規開発
○少量多品種に対応した高品質成膜（膜厚分布・低パーティクル）
○6"/8" SiCデバイス向けとして、20台以上の出荷/受注実績あり
スピンタイプ フォトマスク洗浄装置【WULFシリーズ】
○高精細・高精度のフォトマスク/レチクル対応の洗浄装置
○機能水（水素水・オゾン水・アンモニア水等）を使用した
スピン洗浄ユニット装備
○異なる洗浄機能を各チャンバーに設けるインライン方式により、
高スループットを実現