ALDとは
ALD(原子堆積法)では原子を一層ずつ成膜することが可能で、均一でピンホールの無い膜を成膜できます。
原子層1層から数百ナノメートルまでの成膜に最適です。
高アスペクト比の構造物やカーボンナノチューブなど複雑な形状にもナノラミネートコーティングが行えます。
成膜材料
Al2O3、SiO2、HfO2、TiO2、ZnO等の酸化物、TiN、AlN、NbN等の窒化物、Pt、Ru金属単体膜など
※詳細は弊社までお問い合わせください。
成膜対象
直径4~8インチ、高さ約25mmまでの構造物、オプションにて200mm角の基板、粉体、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能