エリオニクス

8インチ/12インチをラインナップ

業界初のフル 12 インチ描画エリアを実現しました。 研究開発でよく使われる小片サイズから、2 / 3 / 4 / 5 / 6 / 7 / 8 / 12 インチサイズのウェハに対応し、マスクブランクスも 6025 や 9025 サイズに対応しています。

充実した自動搬送機構ラインナップ

研究開発用途で要望の多いシングルカセットローダーはもちろんのこと、少量生産から中量生産まで対応可能なマルチカセットローダー、ロボットローダー等充実のラインナップから最適な搬送機構をご選択頂けます。

ユーザーフレンドリーなソフトウエア

新たな装置制御ソフトウェア「elms（エルムス）」を標準搭載しました。CAD変換やビーム調整，描画実行，SEM観察など様々な機能を整理して分割することにより、必要な機能が見つけやすくなり、作業性が格段にアップしています。アカウント管理機能もあるため、ユーザーのレベルに合わせた機能制限等も可能です。

業界最速の 400 MHz 高速スキャン

これまで大電流で描画を行う際は、最小ドーズタイムと最適なドーズ量のバランスから、ショットピッチを広く設定する必要がありました。400 MHz スキャンクロックでは、最小ドーズタイムが従来の 1 / 4 となり、これまで不可能だった大電流かつ狭ピッチでの描画が可能となり、より高速で高品質な描画を実現します。

高速化したステージ速度

描画フィールドをたくさん並べたり、描画中にアライメントマークの検出を繰り返したりすると、ステージの駆動回数が増えてしまいます。このような描画を行う際は、ステージの駆動速度が重要となります。BODEN∑では高速駆動が可能なステージを採用することで、スループットを重視する産業用途に有利な仕様となっております。

外乱の影響を低減

装置本体を囲う風防と磁場キャンセラーを標準搭載。設置環境の外乱を低減し、安定したプロセスを実現します。

２本のイオン銃を搭載
2本のイオン銃をエッチング用と成膜用に使い分けることで、サンプルをチャンバー内から取り出すことなく、真空状態を維持したままエッチングと成膜を交互に繰り返し行うことが可能です。

イオンビーム照射角度調整
サンプルステージの角度を調整することで、サンプルに対するイオンビーム照射角度を変更することができ、所望の角度に制御した斜めエッチングが可能です。

不活性ガス、活性ガスが使用可能
Ar、Xe などの不活性ガスに加え、O₂ や CF4 などの活性ガスもイオンソースとして適用できるため、反応性エッチングも可能です。

微細加工に最適
ECRプラズマは、低ガス圧の環境下で生成されるため直進性の高いビームを引き出すことができます。大量の低エネルギーイオンを加速して、より高真空な試料チャンバー内に導いて加工します。ナノオーダーのエッチング加工に最も適したシステムです。

PCによる操作の簡略化と自動化
オペレーターの負荷を軽減するための自動スケジュール機能、レシピ機能など快適なオペレーション環境を提供します。

低ダメージエッチング
プラズマ生成条件設定、ビーム加速電圧設定などに加え、ビーム面内分布モニタリング機能を駆使することで、レジストへのダメージを最小限に止め、選択比の大きい加工条件が得られます。