原子層堆積技術において、原子スケールの膜厚制御は時間がかかるという制約がありました。PlasmaPro ASP はそれらの課題を革新的な技術で克服し、コンフォーマルなデポジションやチューニング可能な酸化物/窒化物ゲート絶縁膜のデポジションを高速に行うことが可能です。
リモートプラズマソースの設計、最適化されたチャンバー形状、イオンエネルギー制御のためのウェハステージバイアスにより、従来のリモートプラズマより3倍もの高速化。環境やランニングコストに優しい少ないプリカーサー使用量を実現。
また、PlasmaPro 100を用いた原子層エッチングにより、AlGaNの高精度膜厚制御が実現します。