・AsH3/PH3を対象とした高輝度LED・LD化合物半導体用乾式排ガス処理装置
・大流量NH3（GaNプロセス等）を対象とした触媒燃焼式排ガス処理装置
・排気生成物トラップや危険性の高い高純度ケミカル供給ユニット
・常圧CVD装置 AP/Sシリーズ_株式会社エース（小間番号5113)
1) Face down方式を用い膜厚面内均一性に優位な常圧CVD成膜装置
2) 自社設計によりメインテナンス性に優れた常圧CVD成膜装置
3) ウェハサイズ ８インチ、６インチがメインですが、小口径にもカスタマイズが可能