クリーンアクト

大田区,  東京都 
Japan
  • 小間番号5113

・AsH3/PH3を対象とした高輝度LED・LD化合物半導体用乾式排ガス処理装置

・大流量NH3(GaNプロセス等)を対象とした触媒燃焼式排ガス処理装置

・排気生成物トラップや危険性の高い高純度ケミカル供給ユニット

・常圧CVD装置 AP/Sシリーズ_株式会社エース(小間番号5113)

1) Face down方式を用い膜厚面内均一性に優位な常圧CVD成膜装置

2) 自社設計によりメインテナンス性に優れた常圧CVD成膜装置

3) ウェハサイズ 8インチ、6インチがメインですが、小口径にもカスタマイズが可能