ケニックス

姫路市,  Hyōgo 
Japan
http://www.kenix.jp/
  • 小間番号6202


独創的なプラズマ生成構造による多様な半導体薄膜形成用プラズマプロセス装置を紹介します!

プラズマ生成源と薄膜形成空間を最適融合することにより、新たな薄膜形成環境を構成することができます。

圧力勾配現象を利用した高品質薄膜形成スパッタ装置や加熱蒸発粒子をプラズマ化させるプラズマクラッキング蒸発源、CCP型プラズマ源によるプラズマALD用イオンソース、高周波誘導式超高温加熱プロセス装置、それらの構造設計に必要なセラミック・SiC・石英など硬脆材料の精密加工製品を紹介します。


 出展製品

  • 高品質薄膜作製用スパッタ装置(圧力勾配式スパッタ装置 PGS-240L)
    窒化物・酸化物・化合物薄膜などの高品質薄膜研究開発用スパッタ装置です。 圧力勾配式スパッタ法を採用し、従来スパッタ法に比べて膜質・ダメージ・成膜速度などの優れた特徴を得ることができます。 ...

  • 窒化物・酸化物・化合物薄膜などの高品質薄膜研究開発用スパッタ装置です。
    圧力勾配式スパッタ法を採用し、従来スパッタ法に比べて膜質・ダメージ・成膜速度などの優れた特徴を得ることができます。

  • 研究開発用スパッタカソード
    圧力勾配スパッタに対応した超高真空対応のスパッタカソードです。 規格フランジに対応し、ご使用の装置に容易に接続することができます。 ...

  • 1~4インチに対応しています。

    シャッター付
    ガス導入ポート付き
    ICFフランジマウント構造

  • プラズマクラッキング
    カルコゲン材料など高蒸気圧・活性化しにくい材料を、安定蒸発させ粒子の活性化を促進させる蒸発源です。...

  • シャッター付き

    プラズマガス導入ポート付き

    規格ICFフランジ対応

  • ALD・プラズマCVD装置
    酸素プラズマ源を備えたALD処理室とプラズマCVD室により構成される複合装置です。...

  • 基板は準備室よりALD室及びプラズマCVD室に真空一貫で搬送することができます。