本研究室では、半導体デバイスの製造装置として利用されているプラズマ装置の研究開発を行っております。主に、スパッタ装置、PECVD装置用の新しい方式の高周波プラズマ装置の開発を目指しております。本展示会では、最近、開発した装置の原理や特徴などを詳細にご説明いたします。