ダイヤモンド砥粒・CBN砥粒・各種スラリー・精密研磨フィルムなどを取り扱う会社です。 研磨材のことはお任せください。
弊社は、人工合成ダイヤモンド（単結晶・多結晶・RCD・爆轟ナノ）、ダイヤモンドスラリー、CMPスラリー、ペースト、CBN砥粒、精密研磨フィルム、など研磨材を幅広く扱っております。
半導体・光学・精密機械部品の研磨、工具などで採用実績がございます。
弊社製品は、お客様のご要望に応じてカスタマイズも可能です。
ブースでは、CMPスラリー、ダイヤモンドスラリーを中心に製品展示、パネル展示を行います。
研磨材、研磨工程でお困りごとがございましたら、気軽にお立ち寄りください。
分散安定性が高く、スクラッチが入りにくいです。
研磨レートが高く、幅広い材質に使用されています。
砥粒の種類は単結晶・多結晶・RCD・ナノの4種、水溶性・油性どちらも対応可能です。 お客様のご要望に合わせて配合をカスタマイズできます。
用途：サファイア、セラミック、光学結晶体、超硬金属の研磨
CMPスラリーは、ポリッシュ加工専用に最適化されたシリカスラリーです。
粒子径の均一性に優れ、分散安定性が高いため、均一かつ良好な仕上げ面が得られます。
お客様のご要望に応じて、配合を変えることもできます。
用途：サファイア、シリコン、ステンレス、光学結晶体の仕上げ加工
爆発法多結晶ダイヤモンドパウダーは、特殊な爆発方法で強力な爆発力により、高温・高圧でグラファイトを瞬間的にダイヤモンドに転換させたものです。
結晶は、天然のCarbonadoに似ています。
へき開性がない二次結合した多結晶の粒子構造により、常に新しい切り刃を自生することで、高い研磨レートを得られます。
高い精度を必要とする、ポリッシングやラッピング加工に最適です。
用途：サファイア、セラミック、光学結晶体、超硬金属、合金の研磨
RCDダイヤモンドパウダーは、単結晶ダイヤモンド砥粒を特殊な表面処理加工した精密研磨用ダイヤモンド粒子です。
多結晶ダイヤモンド砥粒に近い性質を持ち、単結晶ダイヤモンド砥粒に比べて微細な切り刃を持つため、研磨効率を向上できます。
また、粒子の真球度が高く、スクラッチが抑えられます。
用途：サファイア、セラミック、SiCウェハー、電子部品の研磨
ナノダイヤモンドパウダーは、不活性な中での爆轟によって炭素が瞬間的にダイヤモンド結晶に成長したものです。
従来のグラファイト静圧転換法による単結晶ダイヤモンドとは違い、角が無く球形です。
不純物含有量が低く（100PPM以下）、高い分散性で品質が安定しています。
一次粒径は約4～7nmです。
用途：超精密ポリッシング、メッキ・ヒートシンクなどの添加剤、磁気ヘッドの研磨