従来のマスフローコントローラの課題
• デポガス、腐食ガス(Cl2, SiH4等)による目詰まりや0点ずれを防ぎたい
• マスフローコントローラのリークをなくしたい
• より精度の高い流量制御を達成したい
• マスフローコントローラで0.025sccmを制御したい
• マスフローコントローラの応答性を改善したい
• ガスを高速に切り替えるプロセスへ対応したい
• 上流側圧、下流側圧の変動によるプロセス影響を改善したい
• ガス流量問題発生時、プロセス装置側、マスフローコントローラ側か原因を切り分けたい
• マスフローコントローラの機差を改善したい
• プロセス装置のガスラインを増やしたい
• マスフローコントローラの在庫数を減らしたい etc.
ガスフローコントローラで課題を解決!
• 広範囲な流量レンジ
⇒ Full Scale 0.5~100%
• 高精度な流量制御
⇒ Set Point +/-0.5%
• 高速な応答性(立ち上り/立ち下り速度)
⇒ ≦100ms@10-100% Full Scale
⇒ ≦300ms@0.5-10% Full Scale
• 圧力/温度変動の影響を受けない
⇒ キャリブレーション不要
• リアルタイムモニタリング機能
⇒ 30種以上の内部情報をリアルタイムでモニタリングし、情報のアウトプット、
自己診断機能搭載