日本で唯一製造・販売している吸着型負圧イオンガスソース(T-ionＴＭ)とエキシマレーザーF2系ミックスガスを展示
当社は1969年 日本で初めてイオン注入用高圧ガスの輸入と取り付け、交換作業を実施しておりました。今回、日本で唯一国産製品提供を開始し、独自の技術を使った吸着型負圧ガスソース(T-ionＴＭ)を製造から販売、サービスまで実施を致しております。ぜひ当社ブース(前工程ゾーン 小間番号2519)へのご来場をお待ちしております。
- 吸着型負圧ガスイオン注入ソース(T-ionＴＭ)を国内で唯一国産製品の製造販売開始
2021年高千穂は日本初 国産品で独自の技術を使った吸着型負圧ガスソース T-ionＴＭを製造から販売まで実施し、半導体メーカー様のお役に立てるサービスを提供しております。
今年の見どころは、半導体工場イオン注入装置に使用しているシリンダーガスBOXを設置し、T-ionＴＭの容器を実際にご覧頂きながらイメージして貰えればと考えております。また、SDSからT-ionＴＭに短時間で置き換え可能な治具もご準備しておりますので、是非ご覧頂けると幸いです。
主なラインアップのガスと致しましては、AsH3, PH3, 11BF3, GeF4, 72GeF4, SiF4, PF3がございます。
また、その他ガス種以外におきましても、ご要望にお応えすることを検討致しますのでご相談ください。
- エキシマレーザーガス
当社では、1997年よりエキシマレーザー用F2ミックスガスを販売しており、世界中から独自に調達ルートを確保したネオンによる混合ガスも承ります。
貴社ご希望の濃度に合わせた製造を実施致しますので、ご相談ください。
(Kr / N e, Ar / Kr /Ne , Xe / Ar / Ne , F2 / Kr / Ne , F2 / Ar /Ne , Xe / Ne , HCl / H2 / Ne)
- 72GeF4 (72エンリッチ四フッ化ゲルマン)
高千穂ではイオン注入装置に使用しているGeF4の中で自然存在比が高いのは72Geです。その72Geの濃度を高めた高千穂のエンリッチ72GeF4は、製造スループット向上に貢献します。また、72Geを選択することにより、Asコンタミの影響を排除できます
- 11BF3 (11エンリッチボロン)
国内企業で唯一、複数のソースから安定供給を受けており、価格競争力、供給安定性、在庫量に自信があります。貴社の装置に合わせた適切な容器サイズにて供給いたします
- 最先端半導体用エッチング、クリーニング用フロン系ガス,オゾン層を破壊と言われているフロン系ガスですが、地球温暖化係数をより少なくすることにより、地球環境にやさしいガスを紹介致します
- ハザードスイーパーＴＭ
日本で唯一の可搬式局所排気用(モバイル)除害クリーナーです。特殊材料ガスの供給装置、機器の改造、チャンバークリーニング、撤去作業など毒性ガスを使用する現場を安全にクリーンな環境を維持できます。可搬式のため、複数の同一ガス設備に対して1つのハザードスイーパーＴＭで対応できます。さらにミストスクラバーＴＭ（当社製品）を接続することで可燃物を吸引した際の安全性を向上できます
- セミコンジャパンに唯一のガスメーカーとして出展を継続しておりますので、ぜひご来場をお待ちしております
http://www.takachiho.biz/index2.html