半導体製造用中電流イオン注入装置は納入実績1,000台以上。高精細FPD製造用イオン注入装置はW/WでシェアNo.1
半導体製造用中電流イオン注入装置は納入実績1,000台以上。
高精細FPD製造用イオン注入装置はW/WでシェアNo.1
日新イオン機器の中電流イオン注入装置は、その信頼性と安定性でお客様から広くご支持を頂いている
EXCEEDシリーズをベースに下記パワーデバイス向け装置をご提供させて頂いています。
◇SiC量産用高温イオン注入装置”IMPHEAT-II”
◇レーザー、パワーデバイス向け水素注入装置”EXCEED400HY"
また、フラットパネルディスプレイ向け装置のシートビーム技術を応用し、
300㎜ウェハ向けに従来用途と異なる材料改質向けに
低エネルギー超高ドーズ用途の装置を開発しています。
充分なフィールド経験を元に、お客様のニーズに合わせ最適なご提案をさせていただきます。
また弊社では注入サービスも提供しております。
ぜひ一度ブースへお立ち寄りご相談ください。