物質・材料研究機構

つくば市千現,  茨城県 
Japan
https://www.nanofab.jp/
  • 小間番号6831


デバイス試作・プロセス開発のお困りごとは是非NIMSにご相談ください！

NIMSの半導体微細加工プロセス共用施設を活用しよう！

【共用施設の特徴】

  • 約60台の微細加工プロセス・評価装置が利用可能
  • いつでもどこからでもオンラインで装置予約可能
  • 多種多様な材料・利用目的に対応した装置を提供
  • 小片から8インチまで様々な開発目的で利用可能

【主な共用装置】

  • 露光：電子ビーム描画装置、レーザー描画装置、マスクレス露光装置、など
  • 成膜：スパッタ装置、真空蒸着装置、CVD装置、ALD装置、など
  • エッチング：CCP-RIE、ICP-RIE、シリコンDRIE、原子層RIE、など
  • 熱処理：赤外線ランプ加熱装置、など
  • 観察：走査電子顕微鏡、走査プローブ顕微鏡、レーザー顕微鏡、など
  • 評価：エリプソメータ、反射分光膜厚計、表面段差計、など
  • 計測：室温プローバー、低温プローバー、など

 出展製品

  • NIMS微細加工プロセス共用施設
    茨城県つくば市にあります...

    • 企業や大学の研究開発にNIMSの装置と技術をご活用ください

Categories

200 装置、組み立て
  • クリーニング/組み立てとパッケージング用洗浄装置
  • ダイシング/ソーイング/スクライブ/切り離し装置
  • ワイヤボンデング装置
    • 203 装置、検査及び測定
  • ストレス：屈折率/反射率及び伝導率測定
  • 膜厚：厚さ/均一性測定/エリプソメーター
  • 顕微鏡：光学顕微鏡
  • 顕微鏡：原子間力顕微鏡（AFM)
  • 顕微鏡：走査型電子顕微鏡（SEM)/集束イオンビーム/透過型電子顕微鏡（TEM)
    • 204 装置、MEMS
  • ダブルサイド露光機
  • 深堀ＲＩＥエッチング/ドライエッチング
    • 207 装置、プロセス
  • エッチング/ストリッッピング/アッシング-ドライ及びウェット装置
  • クリーニング/洗浄/基板乾燥装置/ファブプロセス
  • コート/現像/レジストプロセス/搬送装置
  • リソグラフィ；露光/アライナ/直接描画装置/ステッパ/スキャナ/ナノインプリント
  • 熱プロセス-拡散/酸化/アニール/RTA/RTP装置
  • 積層化：化学的気相成長（ＣＶＤ）/MOCVD/ PECVD/ LPCVD/ ALD/ REALD/ MVD
  • 積層化：物理的位相成長 (PVD)/ スパッタ/蒸着装置
    • 305 材料、ナノテクノロジー
  • 材料；ナノテクノロジー
    • 308 材料、基板
  • ガリウム・ヒ素（GaAs);サファイヤ基板
  • ダイヤモンド基板
  • 化合物半導体（GaAs、GaN、InP、SiGe）
    • 701 製造サービス、またはコンサルテング
  • テストサービス、コンサルティング
    • 802 教育、研究機関
  • 教育訓練/研究機関（非営利）/学会/大学
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