マイクロニックテクノロジーズ

調布市調布ヶ丘,  東京都 
Japan
https://www.mycronic.com/
  • 小間番号6513


半導体フォトマスク用レーザー描画装置を主にご紹介します。弊社ブースに是非お立ち寄りください。

Mycronicはエレクトロニクス産業において高い精度と柔軟性を必要とする製造装置をご提供するスウェーデンのハイテク企業です。4部門で事業を展開していますが、セミコンジャパンでは主に描画装置部門より半導体用フォトマスク描画装置SLXシリーズを中心にご紹介します。

Mycronicの描画装置部門は、フォトマスクを製造するマスク描画装置や、フォトマスクの品質保証に用いられるマスク座標測定装置をご提供しており、多様な分野で使用されています。ディスプレイ(テレビ、スマートフォン等)製造用や半導体製造用の他、多用途の描画装置を取り揃えており、幅広いアプリケーションに対応することが可能です。Mycronicのブース(小間番号6513) では、半導体や高度なパッケージング製造向けのマスク描画装置の他、今年発売した最新のマスク座標測定装置についてご紹介します。

半導体用フォトマスク描画装置SLXシリーズは、成熟したプロセスノードの半導体の需要増加に対応するために2019年に発売されました。2019年の発売以来、延べ50台以上のご注文を頂き、多くのリピートオーダーを頂いています。SLXシリーズは、急速な技術革新に対応する最新のプラットフォーム上に構築されており、今後何年にも亘ってお客様のニーズにお応えします。Mycronicは性能、安定性、持続可能性の面でSLXシリーズの研究開発を続けることをお約束します。

座標測定装置MMXは、成熟した半導体ノード向けに設計されたコスト効率が高い測定装置です。フラットパネルディスプレイ業界における20年以上のマスク座標測定の経験と、実績のあるSLXプラットフォームの相乗効果から生まれたMMXは、ターゲットセグメントに特化した精度と生産性のバランスを実現しています。

また、今回はGlobal Technologies部門より、ドイツVanguard Automation社の光集積および半導体パッケージ向けの3Dナノプリント装置をご紹介します。

Mycronicのブースに是非お立ち寄りください。


 出展製品

  • 半導体用レーザーマスク描画装置SLX e2シリーズ
    SLX e2シリーズは、より高精細で、より厳密な新しい仕様のSLXシリーズ最新機です。...

  • Mycronic SLX e2 シリーズは、ハードウェアとソフトウェアの両方を最適化することで、従来よりもさらに高解像度に対応できるようになりました。これにより、SLX 3 e2 は 90nm ノードに対応するなど、各機種がより微細なノードに対応できるようになり、対応可能な市場が拡大しました。このような低ノードへの対応により、レーザーマスク描画装置は、電子ビーム描画装置の代わりに半導体マスク製造の生産拡大に対応することができ、マスク1枚あたりの生産コストと時間の両方を削減することができます。

    SLX e2シリーズには4種類のベースモデルがあり、事業戦略に応じて顧客のご要望に応じた幅広い構成を選択できます。

    • SLX1 e2: 高スループットのi線モデルで、ローエンドの半導体製造に最適な生産性を実現します。
    • SLX2 e2: 生産性とより微細なノードを両立したバランスの良い装置。
    • SLX Lite3 e2:  位相シフトマスク用途に最適化されたDUVモデル。
    • SLX3 e2:  90 nmのノードまで対応可能な最先端モデル。
  • 半導体用フォトマスク座標測定装置MMXシリーズ
    MMXシリーズは、コスト効率が高い半導体用フォトマスク座標測定装置です。...

  • MMXシリーズは、実績がある半導体用マスク描画装置SLXのプラットフォームをベースとし、FPD向けマスク座標測定装置で20年以上に亘って培われた経験を活用しています。最先端のEvoコントロールプラットフォームの他、最新のソフトウェアと電子機器アーキテクチャを採用しています。

    MMXシリーズは、高スループットと柔軟なハンドリングオプションにより費用対効果が高く、生産性の向上と長期的なコスト削減を実現します。HT(高スループット)モードとHA(高精度)モードの2つのスループットモードが選択可能で、幅広い精度性能の要求に対応できます。

    柔軟なマガジン構成により5インチから9インチまでの半導体基板サイズに対応。ユーザーのニーズに応じて様々なサイズのフォトマスクに対応し、バッチ処理能力を最大限に引き出すことが可能です。