MMXシリーズは、実績がある半導体用マスク描画装置SLXのプラットフォームをベースとし、FPD向けマスク座標測定装置で20年以上に亘って培われた経験を活用しています。最先端のEvoコントロールプラットフォームの他、最新のソフトウェアと電子機器アーキテクチャを採用しています。
MMXシリーズは、高スループットと柔軟なハンドリングオプションにより費用対効果が高く、生産性の向上と長期的なコスト削減を実現します。HT(高スループット)モードとHA(高精度)モードの2つのスループットモードが選択可能で、幅広い精度性能の要求に対応できます。
柔軟なマガジン構成により5インチから9インチまでの半導体基板サイズに対応。ユーザーのニーズに応じて様々なサイズのフォトマスクに対応し、バッチ処理能力を最大限に引き出すことが可能です。