TRAPとは何か？
Trapは半導体製造プロセスにおいて発生する副産物（Byproduct)を捕集する装置です。
Process Chamber(半導体製造装置)内に流入するガスは、Wafer Processに使用された後に、Vacuum Line,VacuumPump,Scrubberを通り、廃棄処理されます。その際、ガス間の反応により発生した副産物がVacuum Lineに堆積すると、Pumpの効率を低下させ、圧力が不安定となります。更にPumpの停止という事態を引き起こします。
このような問題を防止するために、Vacuum LineにTrapを設置し、副産物を捕集します。配管の詰まりを防止PumpとScrubberを保護します。装置全体としての安全稼働、安定したProcessのお役に立てることができます。