レーザーテック

横浜市港北区,  神奈川県 
Japan
https://www.lasertec.co.jp
  • 小間番号4436


レーザーテックは、光を用いた独自の最先端技術で検査・計測ソリューションを開発、提供しています。

当社ブースでは、High NA対応アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS A300」およびEUVリソグラフィ全般の幅広いラインナップ、主力のマスク、マスクブランクス欠陥検査装置、ウェハ関連検査装置をご紹介いたします。

またハイブリッドレーザー顕微卿の実機展示を行いR&D(標準機)、量産試作(特殊ステージ仕様)から量産ライン(プロセス機)まで、測定ニーズに合わせたカスタムのご提案をいたします。あらゆる検査・計測に関するご相談も承っておりますので、ぜひ当社ブースにお立ち寄りください。


 出展製品

  • 新製品 SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置 SICA108
    SiC特有の欠陥に特化した表面検査およびフォトルミネッセンス(PL)同時検査の高速化を実現...

  • 特長

    • 表面欠陥と同時にウェハ内部の基底面内転位(BPD)、積層欠陥(SF)など結晶欠陥を高速・高感度に検出
    • 欠陥の高解像度レビュー画像の取得と同時に高精度自動欠陥分類(ADC)によって、各種欠陥を詳細分類
    • 無人搬送車(AGV)や天井走行式無人搬送車(OHT)といった各種自動化にも対応

    用途

    • SiCウェハ、エピウェハの出荷・受入検査
    • SiCエピタキシャル成長プロセスの管理
    • SiC研磨プロセスの管理
    • SiCデバイス製造プロセスの管理

  • アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS A300 Series
    High NAリソグラフィでの転写性欠陥検出に ペリクル付きマスクへも対応...

  • 特長

    • High NAリソグラフィ用EUVマスクの欠陥検査に対応
    • 現行NAリソグラフィ用EUVマスクの欠陥検査に対応
    • 高効率光学設計と「URASHIMA」光源の採用により高い生産性を実現

    用途

    • EUVマスク製造工程における欠陥検査
    • ウェハファブにおけるEUVマスクの受入検査および定期的な品質確認検査

  • 新製品 EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置 ABICS E320
    次世代EUVマスクブランクス上の微小な位相欠陥の高感度検査と欠陥座標の高精度測定...

  • 特長

    • Actinic inspection (λ=13.5nmのEUV光源を採用)
    • 反射多層膜(Mo/Si)内部の転写性位相欠陥を高感度に検出
    • 40x暗視野光学系による高感度かつ高速検査が可能
    • 1500x高倍率レビューによる欠陥座標の高精度測定が可能
    • 明視野/暗視野レビューによる欠陥解析(欠陥分類や疑似欠陥判定など)

    用途

    • 次世代EUVマスクブランクス(Mo/Si多層膜)の位相欠陥の検査
    • EUVマスクブランクスの位相欠陥のレビュー
    • 欠陥Mitigationのための高精度な位相欠陥座標の出力
  • 新製品 EUVペリクル異物検査装置 PELMISシリーズ
    EUVペリクルの欠陥を高性能に分類...

  • 特長

    • ペリクル付きEUVマスクのペリクル面に付着する異物の検査および表裏自動判別機能
    • ペリクル面に加え、マスクパターン面およびパターン外周部の異物検査にも対応
    • ダイ比較検査、マスクtoマスク比較検査も可能

    用途

    • ウェハファブにおけるEUVペリクルおよびマスクパターン面の異物検査および定期的な品質管理検査
    • マスクショップにおけるEUVマスク製造工程での異物検査