MAGNEX

Chungcheongbuk-do, 
Korea (South)
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  • 小間番号1926

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207 装置、プロセス
  • イオン注入装置
  • エッチング/ストリッッピング/アッシング-ドライ及びウェット装置
  • エピタキシ装置：エピリアクター/分子ビームエピタキシ（MBE）/原子層エピタキシ（ALE）
  • 積層化：化学的気相成長（ＣＶＤ）/MOCVD/ PECVD/ LPCVD/ ALD/ REALD/ MVD
  • 積層化：物理的位相成長 (PVD)/ スパッタ/蒸着装置
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