天谷製作所では市場実績のある常圧CVD装置、フォトマスク洗浄装置に加え、開発中のミストCVD装置を紹介しております。
■常圧CVD装置：半導体・電子部品・MEMS等、様々な用途に対応した酸化膜成膜装置
お客様のご要望に応じ、以下特徴のある連続式、枚葉式、バッチ式装置を取り揃えております
・ NSG(USG)・BPSG・PSG・BSG・AlOx膜等の成膜が可能
・ 高成膜レート・高稼働率・短メンテナンスにより、低CoOを達成
■フォトマスク洗浄装置：フォトマスク及びレチクル洗浄装置
お客様のご要望により、Dip式に加え、以下特徴を持った高精細・高精度対応スピン式洗浄装置を取り揃えております
・ 機能水（水素水・オゾン水・アンモニア水等）を使用したスピン洗浄ユニットを装備
・ インライン方式により、高スループットを実現
■ミストCVD装置（開発中）：酸化物半導体（ディスプレー、パワーデバイス、太陽電池）機能性アモルファス膜（WBG、high-k、絶縁）等、様々な用途に適用可能なCVD装置
原料溶液をミスト化し、キャリアガスにより基板上に輸送し、熱などを加えて薄膜形成を行う装置
・多くの遷移元素酸化膜の成膜に対応
・上記に加え、薄膜LIB材料、2Dカルコゲナイト、酸化グラフェンなどの粉体材料に幅広く対応可