エイチ・ティー・エル

立川市,  東京都 
Japan
http://www.htlco.co.jp
  • 小間番号2127


株式会社エイチ・ティー・エルの出展ブースにぜひお立ち寄りください。

●フォトマスク用座標測定装置、欠陥検査装置 - ブイ・テクノロジー社製品 

LSI:レジストレーション測定装置、外観検査装置、欠陥修正装置、マスクライター(2nd layer)

FPD:精密座標測定装置、FIB欠陥修正装置、欠陥修正装置、外観検査装置

●ウェーハRTPアニール装置 LEVO6000 - Levitech社製品

次世代RTP(Rapid Thermal Processing)システム

●走査型超音波顕微鏡 ー PVA TePla Analytical Systems社製品

高解像度の非破壊検査装置 (マニュアル機/自動機)、以下の機能の搭載が可能

 ・低周波のトランスデューサーを高周波 (GHz)帯相当に増幅して検査するTone burst

 ・対象物の反りに対応し、常に表面から一定の焦点距離をキープし検査するHiSA

 ・上層から下層まで透過検出できるDynamic Through Scan

●卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積装置(ALD / PEALD) - Arradiance社製品

テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能
カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェン、粉体にも成膜可能。

簡易型熱・UVナノインプリント装置CNIツール NIL Technology社装品

簡易型でデスクトップタイプの熱・UVインプリント装置。8”(インチ)までのモールドとインプリント材料投入が可能 

ナノインプリント用フォトレジスト micro resist technology社製品

高機能ポリマー&レジスト

マイクロエレクトロニクス、半導体・電子デバイス、 MEMS用


 出展製品

  • フォトマスク用座標測定装置、欠陥検査装置 - ブイ・テクノロジー社製品
    LSI:レジストレーション測定装置、外観検査装置、欠陥修正装置、マスクライター(2nd layer) FPD:精密座標測定装置、FIB欠陥修正装置、欠陥修正装置、外観検査装置...

  • LSI:レジストレーション測定装置、外観検査装置、欠陥修正装置、マスクライター(2nd layer)
  • ウェーハRTPアニール装置 LEVO6000 - Levitech社製品
    次世代RTP(Rapid Thermal Processing)システム...

  • 次世代RTP(Rapid Thermal Processing)システム

  • 走査型超音波顕微鏡 ー PVA TePla Analytical Systems社製品
    高解像度の非破壊検査装置 (マニュアル機/自動機)、以下の機能の搭載が可能  ・低周波のトランスデューサーを高周波 (GHz)帯相当に増幅して検査するTone burst  ・対象物の反りに対応し、常に表面から一定の焦点距離をキープし検査するHiSA  ・上層から下層まで透過検出できるDynamic Through Scan ...

  • 高解像度の非破壊検査装置 (マニュアル機/自動機)、以下の機能の搭載が可能
    ・低周波のトランスデューサーを高周波 (GHz)帯相当に増幅して検査するTone burst
    ・対象物の反りに対応し、常に表面から一定の焦点距離をキープし検査するHiSA
    ・上層から下層まで透過検出できるDynamic Through Scan
  • 卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積装置(ALD / PEALD) - Arradianc
    テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能 カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェン、粉体にも成膜可能。 ...

  • テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能

    カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェン、粉体にも成膜可能。
  • ナノインプリント用フォトレジスト - micro resist technology社製品
    高機能ポリマー&レジスト マイクロエレクトロニクス、半導体・電子デバイス、 MEMS用の高機能材料 ...

  • 高機能ポリマー&レジスト

    マイクロエレクトロニクス、半導体・電子デバイス、 MEMS用の高機能材料