IC7500は主に半導体メモリで使用する金属配線材料の薄膜形成に対応した、スパッタリング装置です。当社独自のCAELA (カエラ) カソー
ドにより、反応性スパッタや高ストレス材料においても良好な均一性と低パーティクルを両立しました。
高歩留りと高生産性の実現により、製造コストの大幅抑制が可能な装置です。
FC7100はトランジスタ周辺の成膜やCMOSイメージセンサーなどで実績のある装置です。独自のカソードディメンジョンで、ダメージを
低く抑えた成膜、プラズマモニターによる安定したリアクティブ成膜が行えます。