ＵＶ光源専門メーカとして高付加価値なＵＶ光をご提供いたします。
水銀を使用しない、高付加価値なUV光源を提供しております。
【エキシマUV照射装置】マスクやウエハの有機物、レジスト残渣を172nmの光で取り除きます。
【UV-LED照射装置】265nm～405nmまでの波長を実装可能。照射エリアもカスタマイズできます。
【UVレーザー】355nmのUVレーザーを光学系とセットで提供します。
弊社独自技術により歩留まり低減、タクトタイム短縮、品質向上に貢献いたします。
【特徴】
・12インチウェハを一括照射可能
※当社独自技術である、面全面が発行する「フラットタイプ」によりワーク全面を一括照射可能。
・ダメージレスでワーク表面の有機物を除去
・水銀不使用で環境負荷を大幅軽減
・短波長(172nm)をエキシマランプで照射することにより、素材表面の有機物除去や表面改質(親水性や密着性の向上)が期待できる。
※オーダーメイド承ります。
・低温処理を可能にし、ワークの熱損傷を回避 ・水銀を使用せず省スペース
・省電力、メンテナンスフリーでランニングコスト削減
※照射範囲や搭載波長をワークサイズに合わせてオーダーメイド可能なため、最適条件でUV処理を行える。またUV-LEDは単波長・高効率(265～405nm)で照射することにより、エネルギーの無駄がなく発熱も僅かなため長寿命です。
・加工プロセスアウトプット評価までトータルシステムで販売 ・紫外線レーザーを用いたことによりダメージを大幅に軽減し精密な加工が可能に
・従来のレーザーに比べ低価格、低寿命 ※美しい加工が可能な紫外線レーザーをトータルシステムでご提案いたします。従来の加工と比べてワークへのダメージを大幅に軽減した精密加工が実現可能です。