ジェイテクトサーモシステム

天理市嘉幡町,  奈良県 
Japan
https://thermos.jtekt.co.jp/
  • 小間番号5121


実績豊富な量産用SiCパワー半導体熱処理装置やAI向け先端半導体パッケージ、VCSEL、MEMS向け最新熱処理装置の紹介

抜群の生産性を誇るΦ8”対応SiCパワー半導体熱処理装置(活性化、酸窒化、コンタクトアニール)を紹介します。

また、AI半導体向けの先端パッケージ(2.xD、3D、FOPLP他)用熱処理装置も紹介します。

□510×515㎜、□600×600㎜基板に対応し、20ppm以下の低酸素濃度雰囲気処理が可能です。

その他、MEMS向けで膜応力制御が可能なLP-CVD成膜装置や、販売台数トップレベルの面発光レーザー(VCSEL)用酸化装置など幅広い分野の装置を紹介します。

是非ご来場ください。

また、当社では各種デモ機も保有しており、プロセステストにも対応していますので、お気軽にご相談ください。


 出展製品

  • 先端半導体パッケージ用 Φ300㎜、□510×515㎜、□600×600基板対応クリーンオーブン
    2.xD、3D、FO-PLP等の先端半導体パッケージ対応クリーンオーブン。 基板対応サイズは、Φ300㎜、□510×515㎜、□600×600。 当社独自のシール構造を採用し、低酸素濃度(20ppm以下)での処理を実現。 クリーン度はクラス100(ISOクラス5)に対応(温度安定時) Φ300㎜用では、OSATに採用実績が豊富なクリーンオーブンです。 ...

  • 型式:SO2-12-F、SO2-60-O
    基板対応サイズ:Φ300㎜、□510×515㎜、□600×600。
    低酸素濃度:20ppm以下。
    クリーン度:クラス100(ISOクラス5)(温度安定時)
    Φ300㎜用では、OSATに採用実績が豊富なクリーンオーブン。

  • SiCパワー半導体 コンタクトアニール RLA-4200-V
    Φ8”に対応したコンタクトアニール装置。 搬送を見直し、従来装置よりスループットを向上させた装置です。 サセプタ載せ替え機構を標準装備し、SMIFにも対応可能。...

  • 特長
    ・1200℃処理に対応
    ・~8”対応
    ・SMIF、OHT対応可能
    ・サセプタ自動載せ替え機構装備
    ・真空ロードロック搬送採用で酸化を抑制
  • SiCパワー半導体 活性化アニール VF-5300HLP
    イオン注入後の高温活性化アニール装置。 8”100枚処理に対応し抜群の生産性を誇っています。 搬送室はN2ロードロック、チャンバ内は真空パージ機構を装備し、 スループット向上に貢献しています。...

  • 特長
    ・1900℃処理に対応
    ・~8”100枚対応
    ・搬送室N2ロードロック装備
    ・チャンバ内真空パージ機能装備
    ・SMIF、OHT対応可能
    ・H2ライン追加で表面アニール、トレンチラウンド化処理にも対応
  • SiCパワー半導体 ゲート酸窒化 VF-5300H
    ゲート絶縁膜形成用NOアニール装置。8”100枚処理に対応。 チャンバ内は独自のメタルフリー構造を採用し、 クリーニング頻度を大幅に削減。 お客様の量産に応える高スループット縦型装置。...

  • 特長
    ・1400℃処理に対応
    ・~8”100枚対応(SMIF搭載可能)
    ・チャンバはSiCと石英のみで構成された当社独自のメタルフリー構造
    ・チャンバクリーニング機能対応
    ・ガスはNOの他、N2O、NH3、H2など各種対応可能
  • VCSEL(面発光レーザー) WET酸化炉 VF-3000B
    VCSEL用酸化炉でベストセラーの縦型装置。 低温で優れた温度制御性・再現性を有するLGOヒータを搭載、 AlGaAs層の酸化狭窄構造(アパチャ)サイズの面内、 バッチ内、バッチ間バラツキを低減している。...

  • 特長
    ・販売台数トップレベル装置
    ・低温で優れた温度制御性・再現性を有するLGOヒータを搭載、
    AlGaAs層の酸化狭窄構造(アパチャ)のサイズのバラツキを低減。
    ・~6” 25枚処理が可能
    ・自動搬送ロボット搭載でCtoC搬送に対応