昭和鉄工

糟屋郡,  福岡県 
Japan
https://www.showa.co.jp/
  • 小間番号3430

熱技術で半導体製造における様々なソリューションを提案いたします

SHOWAが独自に開発した30μmの超薄型面状ヒーターや最高使用温度1000℃でフレキシブルなIRセラフレックスヒーターに加え、

設備や装置排気配管の昇華物固着による目詰まり解消に開発した「ヒータブルパイプ」などを展示、半導体後工程プロセス用途として

開発中のOVENも紹介しています。

ヒーターは温度分布コントロール、急速昇温等、用途に応じたパターン設計が出来、可能性が無限に広がる商品です。

その優れた特徴を活かした加熱装置や電気炉の設計・製作にも多数の実績・ノウハウがあります。

日本、台湾に生産拠点があり、中国への販売も実績多数。アフターサービス体制も整えており、グローバルに対応している会社です。

是非お立ち寄りください。


 出展製品

  • Heatble Pipe
    工業用熱処理炉などで発生した昇華物の配管内部への付着を低減させるヒータ内蔵型のパイプ部品です。昇華成分の付着を防止することで被加熱物の清浄度を保ち、付着物除去のメンテナンス手間も削減します...

  • 熱処理周辺に付着する昇華成分への対策


    ワークが熱処理炉で処理される際には、塗布した薬液に含まれる揮発性成分が気化して多量のガスが発生します。このガスが、熱処理炉から外部に漏れて冷やされることで昇華し、熱処理炉周辺の製造ラインであるセンサーや配管などに付着してしまいます。

    それらの昇華物を放置するとワークの清浄度を悪化させてしますので、品質を維持するためには、別途「昇華物処理装置」の設置や、高頻度のメンテナンスが必要となります。

    対策としては「昇華物処理装置」を設置して発生した昇華ガスを装置内に吸引・強制冷却し、昇華物を回収します。またメンテンナンスが困難な配管類は、予め加熱することがガスの昇華物付着防止に効果的です。

  • IR Ceraflex Heater
    遠赤外線放射特性の高いセラミック碍子に電熱線を通して編組みした、フレキシブルなセラミックヒーターです。編組構造の特性を活かした自由な形状・サイズ展開が特徴で、使用可能温度は1,000℃、耐久性にも優れています。カーボンニュートラルに向けた電気加熱への切り替えを実現します。...

  • 均一な温度分布

    ヒーター形状が面状で面内温度分布が良好ですので、安定した均一加熱ができます。

    豊富なバリエーション

    編組構造のため製作寸法が自由です。特に大型サイズのヒーターも容易に製作できます。

    寿命が長い

    電熱線をセラミック碍子を通して直線的に配列、コイル状ヒーターと比較して作動温度が低く長寿命です。

    早いレスポンス

    電力密度を大きく取ることができますので(5W/cm2)、非加熱物の急速加熱が可能です。

    加熱効率が高い

    フレキシブルタイプのため、非加熱物の形状に合わせた加熱や接近した加熱、または密着加熱も可能です。

    遠赤外線放射密度が高い

    放射体(面)に遠赤外線効率の高いセラミック碍子を使用。極めて高い遠赤外線密度を実現しました。

  • SUSFOIL Ultrathin Planar Heater
    独自開発のステンレス箔を基材とした超薄型の面状電気ヒーターです。特殊なエッチングプリント処理により、わずか30μmという驚異的な薄さを実現しました。ステンレス素材のため、一般的なアルミ箔ヒーターよりも高温域の加熱が可能です。 パターン設計や絶縁材の種類によって、用途に応じた様々なヒーターをご提案いたします。...

  • 高い加熱効率

    シート状で接触面積が大きく、熱効率98%を達成してます。

  • Multi-High-Temperature Oven(SFC-Series)
    低酸素でクリーンに最高使用温度400℃まで熱処理可能な『熱風循環式電気炉』 半導体後工程におけるサポートガスの絶縁成膜(ポリイミド成膜)等 幅広いプロセスでご使用を頂ける汎用型の熱風循環式電気炉です。...

  • 🔳残留酸素濃度 100ppm以下

    🔳クリーン度 Class100

    🔳最高使用温度 400℃

    🔳炉内温度精度 350℃±5℃

    🔳急速冷却機能搭載

    ※現在開発中の目標仕様

  • Hot Plate
    SBFシリーズ 耐熱衝撃性に優れ、高精度な温度均一性を有したプレート型ヒーターです。発熱体には自社製の各種薄型ヒーターを採用、MAX450℃の温度で使用可能です。プレート素材は、各種金属、セラミック複合材等、用途に合わせて選択できます。急速昇降温や高いクリーン度にも対応でき、半導体・液晶の生産設備等にご利用いただけます。...

  • ●半導体・液晶製造工程用ホットプレート

    ●高い耐熱衝撃性、熱均一性

    ●ニーズに応じたサイズで設計

     
     プレートサイズ  最大直径450mm
     プレート素材  各種金属、セラミック複合材など
     加熱方式  ステンレス箔ヒーター、マイカヒーター、ポリイミドヒーター
     対応温度  〜MAX450℃