大日本科研

向日市,  京都府 
Japan
http://www.kakenjse.co.jp
  • 小間番号3729


当社の展示ブースでは、前工程の重要なプロセスとなる露光装置のパネル・動画や当社装置で作成したサンプルを展示しております。

株式会社大日本科研では、露光装置の製造販売をメインに、設計・製作からメンテナンスまで一貫したサービスを行っております。創業からの露光装置販売台数も2000台以上となり、量よりも質に重きをおき、お客様のご要望に沿ってカスタマイズで露光装置を製造しておりますので、セラミックス、フイルム、金属向けの露光機も製造できます。露光工程に興味がある、または露光でお困りのお客様など、是非当社にお声がけください。

TGVウエハも展示いたします。(ご提供:ギガフォトン株式会社様/Hall2 小間番号2555)


 出展製品

  • MX-Series
    独自の高速描画「ポイントアレイ方式」を用いて直接パターンを描画する事が可能な装置です。...

  • フォトマスクを必要としない、ダイレクトイメージ露光。
    研究開発・試作・小ロット生産はもちろんのこと、搬送系を搭載しての
    量産設備としてもカスタマイズ可能。
    ・最小線幅1μm/3μm/5μm/10μmのラインナップ。
    ・基板サイズなど、ご要望に応じてカスタマイズ可能。
  • Roll to Roll exposure RA-Series
    タッチパネル、電子ペーパー、光学フィルム(3D他)、有機EL用マスクなどフィルム形状のワークに対応した露光装置です。Roll to Rollにも対応した、フレキシブルで薄く・軽量なデバイスの大量生産を実現します。...

  • ・縦型露光による基材の低テンションシステム
    ・超高圧UVランプ一灯で基材両面を同時露光
    ・マスクと基材のオートアライメントによる多層露光が可能
    ・マスク冷却に対応可能(オプション)
    ・タッチパネル、ファインメタルマスク(FMM)、FPC、リードフレーム、有機EL照明、電子ペーパー、太陽電池、他 量産用
  • AUTOMATIC TITLER
    フォトリソグラフィー方式タイトラ...

  • 投影露光方式によるタイトリング装置。
    ・非接触外形アライメントと露光方式による低パーティクル設計
    ・自由なサイズでタイトリング可能。2次元コード露光、周辺露光など、多彩なオプションをご用意。
    ・オリフラ・ノッチを基準として、任意の角度にタイトリング
    ・ストライプ文字にも対応(ストライプ幅と角度を自由に調整可能)
    ・カセット内マッピング機構により、ウェハの抜けをオートで検知
    ・「固定文字+インクリメント(デクリメント)文字」等、任意の文字入力が可能
  • MA-4000型 マスクアライナ
    フォトレジストが塗布された基板をマスクに重ね合わせ、パターンを焼付けする露光装置で、多層露光におけるオートアライメントができるようにスコープとX・Y・θステージ機構を備え、また基板の供給・アライメント・露光・排出を自動で行います。...

  • ・GaN、GaAs対応、マスクチェンジャー、2インチ~300mmまで各種取り揃え

    ・ウェハ、□基板両方に対応可能です。
    ・自動平行補正機構により、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度制御
    ・同シリーズは累計600台以上の納入実績があり、ソフト含めた完成度に磨きがかかっており安定稼働いたします。