高千穂商事

渋谷区,  東京都 
Japan
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  • 小間番号5614

国内唯一の自社製造吸着型負圧ガスソース(T-ionTM)、大型インプラボックス、エキシマレーザーガス中心に展示致します。

当社は1969年 日本で初めてイオン注入用高圧ガスの輸入と取り付け、交換作業を実施しておりました。今回、日本で唯一国産製品提供を開始し、独自の技術を使った吸着型負圧ガスソース(T-ionTM)を製造から販売、サービスまで実施を致しております。ぜひ当社ブース(総合ゾーン 小間番号5614)へのご来場をお待ちしております。

■吸着型負圧ガスイオン注入ソース(T-ionTM)を国内で唯一国産製品の製造販売開始

2021年高千穂は日本初 国産品で独自の技術を使った吸着型負圧ガスソース T-ionTMを製造から販売まで実施し、半導体メーカー様のお役に立てるサービスを提供しております。

今年の見どころは、ROTAREX社製バルブを装着した量産用大型ガスボックスにT-ionTMの容器を実際に設置し、実機に近い状態でご覧頂きながらT-ionTM使用イメージをお伝えできればと考えております。また、海外製負圧ガスソースからT-ionTMに短時間で置き換え可能な治具もご準備しておりますので、是非ご覧ください。

主なラインアップのガスと致しましては、AsH3, PH3, 11BF3, GeF4, 72GeF4, SiF4, PF3, Xeがございます。

また、上記ガス種以外におきましても、ご要望に応じて検討致しますのでご相談ください。

■トクシキャプチャーTM

極微量の有毒ガスを除去するマイクロ除害システムで簡便に有毒ガスを削減できるソリューションで高千穂が開発し、世界各国で特許を取得している技術です。化学反応でアウトガスを除去し人体やクリーンルーム環境の汚染に対するリスク低減に有効です。またバルブの老朽化防止にも役立ちます。

■エキシマレーザーガス
当社では、1997年よりエキシマレーザー用F2ミックスガスを販売しており、世界中から独自に調達ルートを確保したネオンによる混合ガスの製造も承ります。
貴社ご希望の濃度に合わせた製造を実施致しますので、ご相談ください。(Kr / Ne、Ar / Kr /Ne、Xe / Ar / Ne、F2 / Kr / Ne、F2 / Ar /Ne、Xe / Ne、HCl / H2 / Ne)

72GeF4(72エンリッチ四フッ化ゲルマン)

イオン注入装置に使用しているGeF4の中で自然存在比が高いのは72Geです。その72Geの濃度を高めた高千穂のエンリッチ72GeF4は、製造スループット向上に貢献します。また、72Geを選択することにより、Asコンタミの影響を排除できます

11BF3(11エンリッチボロン)
国内企業で唯一、複数のソースから安定供給を受けており、価格競争力、供給安定性、在庫量に自信があります。また貴社の装置に合わせた適切な容器サイズにて供給いたします

■最先端半導体用エッチング、クリーニング用フロン系ガス

オゾン層を破壊と言われているフロン系ガスですが、地球温暖化係数をより少なくすることによる地球環境にやさしいガスを紹介致します

■ハザードスイーパーTM
日本で唯一の可搬式局所排気用(モバイル)除害クリーナーです。特殊材料ガスの供給装置、機器の改造、チャンバークリーニング、撤去作業など毒性ガスを使用する現場を安全にクリーンな環境を維持できます。可搬式のため、複数の同一ガス設備に対して1つのハザードスイーパーTMで対応できます。さらにミストスクラバーTM(当社製品)を接続することで可燃物を吸引した場合での安全性を向上できます。

セミコンジャパンに唯一のガスメーカーとして出展を継続しておりますので、ぜひご来場をお待ちしております

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