「最先端半導体用原子層制御プロセス最適設計フレームワークの構築」に関する研究成果を展示をします。
本研究では最先端半導体デバイス製造プロセスで用いられる原子層成長(ALD)及び原子層エッチング(ALE)を併用する原子層制御プロセス(ALP)を論理的に最適設計する指針の確立を目指します。