日本由和テクノ

中央区,  東京都 
Japan
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  • 小間番号2651

半導体装置用最大の消耗品のランプ . 年間コスト３０％削減

 出展製品

Categories

200 装置、組み立て
  • ダイシング/ソーイング/スクライブ/切り離し装置
    • 201 装置、フラットパネルディスプレイ
  • レーザー処置；パネル、光電セルの切断システム
    • 203 装置、検査及び測定
  • 膜厚：厚さ/均一性測定/エリプソメーター
  • 顕微鏡：光学顕微鏡
    • 206 太陽光発電装置
  • 検査と計量
  • 薄膜
    • 207 装置、プロセス
  • 積層化：化学的気相成長（ＣＶＤ）/MOCVD/ PECVD/ LPCVD/ ALD/ REALD/ MVD
  • 積層化：物理的位相成長 (PVD)/ スパッタ/蒸着装置
  • 結晶成長および加工装置
    • 208 装置、テスト
  • 光学テスト装置
    • 308 材料、基板
  • エピタキシャル/Epi/ゲッタード/内部ゲッターウェーハ
  • 化合物半導体（GaAs、GaN、InP、SiGe）
    • 401 サブシステム
  • 光学；レンズ製品/自動焦点システム
  • 露光；発光源-レーザ/ランプ/X線/他
    • 501 HVAC、温度、湿度、汚染の制御
  • HVAC；温度/湿度システムとコントロール
    • 502 マテリアルハンドリングシステム
  • 静電気；ESD管理
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