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材料科学技術振興財団

世田谷区,  東京都 
Japan
https://www.mst.or.jp/
  • 小間番号E5232


MSTは「分析×技術+AI」で研究開発・品質管理の課題解決をサポートいたします。 ぜひ、弊団ブースへお立ち寄りください。

【当日出展内容】

半導体分野を対象とした各種機器分析の事例
・AI・計算科学を用いた解析事例

知識豊富な営業担当より、最適な分析プランをご提案いたします。
 


 出展製品

  • ALD成膜におけるプリカーサ吸着シミュレーション
    基板上へプリカーサ吸着時の活性化エネルギー、反応熱の情報を取得...

  • ALD(原子層堆積法)は気相の連続的な化学反応を利用した成膜技術であり、膜厚の厳密なコントロールが可能なことや、低温プロセスでの運用、
    付き回りの良さなどの理由から、微細加工が求められる半導体分野を中心に広く用いられています。
    一般に成膜速度が遅いALDにおいて、異なる基板間の成膜速度の差を理解するためには基板上へのプリカーサ吸着メカニズムの解明が求められます。
    第一原理計算によって異なる基板上のプリカーサ吸着シミュレーションを行った事例を紹介します。

  • 真空装置内の汚染分析
    オイルバックやグリースなど真空装置内の汚染原因を評価可能...

  • 空間内の気体分子密度が低いという特徴を利用した真空装置は、電子部品の製造工程における薄膜形成や表面分析など様々な用途で使用されます。
    真空装置のチャンバーは閉ざされた空間のため、微量の分子の存在が装置内の汚染を引き起こしやすく、汚染を抑制するために、
    ポンプ・装置・試料など汚染源を特定する調査が必要です。
    本資料では、真空装置内の汚染についてTOF-SIMSで調査した事例を紹介します。

  • SIMSによるダイヤモンド評価事例
    不純物元素の定量評価及び膜厚評価が可能です...

  • ダイヤモンドは高絶縁破壊電界など優れた物性を有するため、次世代のパワーデバイスや量子デバイス材料として期待されています。
    ダイヤモンドへ不純物元素をドープすることにより高性能な半導体として機能します。
    ドープした元素の濃度分布を把握するには, ppb~ppmオーダーの不純物を高感度で検出可能なSIMS分析が有効です。
    あわせて不純物の濃度分布から各層の膜厚評価も可能です。
    MSTでは、ダイヤモンド標準試料を取り揃えており、30種類以上の元素について定量することができます。
  • UPS・LEIPSによるバンド構造評価
    材料の価電子帯・伝導帯・バンドギャップの情報が得られます...

  • 材料の様々な特性を制御するにあたって価電子帯・伝導帯・バンドギャップといったバンド構造の把握は極めて重要な評価項目となっています。
    中でもバンドギャップは、従来の手法では評価可能な材料が限られていました。
    低エネルギー逆光電子分光(LEIPS)によって伝導帯(電子親和力)が測定できるようになったことにより、
    紫外光電子分光(UPS)による価電子帯の測定と組み合わせたバンドギャップ評価が可能となりました。
    ここでは測定例としてSi基板のUPS・LEIPSスペクトルをご紹介します。
    バルク材料のみに留まらず、薄膜の評価(例えば、成膜条件違いの薄膜の試料間比較)にも有効です。
  • 統計的手法による画像解析事例
    分析の目的に合わせた計算モデルの作成が可能です...

  • ・近接原子配置の解析
    磁性膜の透過電子顕微鏡画像に対して結晶格子の配列を統計的に解析いたします。
    六方晶をモデル化して構造を探索し、人の目では判断が難しい結晶粒の配置を定量的に評価いたします。
    ・数理モデルを用いた界面抽出
    トランジスタのゲート酸化膜の材質界面を統計的な数理モデルにより検出いたします。
    数理モデルを構築して界面を検出。統計的機械学習モデルを構築し、材質界面を統計的に推定することが可能です。