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ノリタケ

名古屋市西区,  愛知県 
Japan
http://www.noritake.co.jp
  • 小間番号E5437


ノリタケでは研削・研磨・切断・濾過を対象とした製品をご紹介いたします。

➀SiCウェーハ平面研削・BGホイール
 ⇒独自の結合剤によって摩耗率を低減させコスト低減に貢献します。

➁各種材料向け平面研削・BGホイール
 ⇒各種材料に対応したホイールをご提案可能です。

➂SiCウェーハCMP用パッド(砥粒内包型パッド「LHAパッド®」)
 ⇒他社にはない砥粒内包型パッドによってスラリー不要で研磨可能であるため、コストと環境負荷の低減に貢献します。

➃パッケージダイシング用ブレード
 ⇒各種材料に対応したブレードをラインナップしており、お客様の課題に対してきめ細やかなソリューション提案が可能です。

➄PFAS除去システム・サービス
 ⇒ファインバブル×セラミックフィルターの独自技術で、効率的にPFAS分離・濃縮を実現し、環境への負荷を極限まで抑えます。

➅ドライ洗浄炉(塩素ガス対応)
 ⇒塩素ガスとの加熱反応による洗浄時間を短縮し、ドライ洗浄により治具へのダメージを低減します。

➆開発品 研磨パッド
 ⇒LHAパッド®の基盤技術を用いて、GaNや酸化膜など各種材料向けの研磨パッドを開発いたしました。

➇開発品 低温焼結銅ナノ粒子/TGV用焼結銀ペースト

In this exhibition, we will introduce products targeting grinding, polishing, cutting, and filtration.

① SiC Wafer Grinding & BG Wheels
→ Unique bond reduces wear and cost.

② Grinding & BG Wheels for Various Materials
→ Solutions for multiple materials.

③ SiC CMP Pad (LHA Pad®)
→ Slurry-free polishing cuts cost and environmental impact.

④ Package Dicing Blades
→ Wide lineup for diverse materials.

⑤ PFAS Removal System
→ Fine-bubble × ceramic filter for efficient PFAS separation.

Chlorine-Compatible Dry Cleaning Furnace
→Speeds up cleaning by heated chlorine reaction and lowers jig wear.

⑦ Development product Advanced Polishing Pads
→ For GaN, oxide films, and more.

⑧ Development product Low-Temp Copper Nanoparticles / Silver Paste for TGV


 出展製品

  • セミドーザー
    SiCウエハー粗研削用ホイール(平面研削・バックグラインド) https://www.noritake.co.jp/grinding/sic-semiconductor/...

  • 高能率でも安定した切れ味が持続するため、生産性の向上に貢献します。
    また、長寿命工具であるため、摩耗率を抑えることで加工コスト低減に貢献します・

    特長
    ● 有気孔構造で切れ味が向上し、切り屑排出と研削液供給が安定
    ● 高い砥粒保持力で摩耗を抑制し、工具寿命を大幅延長
    ● ダメージ層を浅く抑え、後工程(仕上げ研削・CMP)の負荷を軽減

  • SiCウェーハCMP用パッド(LHAパッド)
    LHAとはLoosely Held Abrasive の略で、繊維状の母材樹脂中に、砥粒が内包された(完全には固定されていない)構造を有する研磨工具です。 https://www.noritake.co.jp/grinding/sic-semiconductor/...

  • 砥粒を内包した構造により、LHAパッド®は外部砥粒を使わずに安定した研磨能率を維持。
    スラリーを必要としないためKMnO₄溶液のみで加工が可能で、長時間の安定研磨に加えて、スラリー廃液の削減と薬液の循環再利用を実現します。
    特長
    ● 独自構造で研磨速度が向上し、生産性を高めます
    ● 摩耗を抑える材質設計で、性能を長期間安定維持
    ● 均一な接触特性により、高品位な面仕上げを安定確保
    ● 研磨材スラリーレスで加工でき、消耗材コストと環境負荷を低減
  • PFAS分離・除去サービス
    半導体プロセスで発生するPFAS排水をカートリッジの後付けのみで処理が可能。 PFAS除去から熱分解までのトータルサービスを提供。...

  • 特長
    ●イオン交換樹脂の交換・再生から、その後のPFAS分解まで、トータルで弊社が請け負います
    ●イオン交換樹脂を繰り返し使用可。焼却量を大幅に削減しPFAS分解までに発生するCO2量を従来比1/10程度までに減らせます
    ●セラミックフィルター+ファインバブルの独自技術により、環境負荷の少ない再生プロセスを実現

  • ドライ洗浄炉(塩素ガス対応)
    G a N 成膜装置用治具を短時間でドライ洗浄可能...

  • GaN,AlNの成膜用治具をドライ洗浄することで治具への負荷を低減。

    塩素ガスとの加熱反応により洗浄時間を短縮。

  • 開発品 研磨パッド、Cu粒子、銀TGV用ペースト
    各種半導体研磨プロセスの研磨工具について提案...

  • 研磨パッド
    特長
    ●ノリタケオリジナルの基盤技術「OIHS®」母材樹脂に粒子を内包させる技術を用いた独自構造の研磨パッド

    Cu粒子
    特長
    ●シャープな粒度分布で低温焼結が可能

    TGV用銀ペースト
    特長
    ●抵抗率メッキ同等
    ●ガラスクラックレス
    ●生産性良好