原田産業

◆パルス変調イオン発生方式により、電極からの発塵を極限まで低減

◆設備や環境の気流設計を乱さず、パーティクルを不用意に巻き上げることなく、ランニングコストを抑えて直下及び周囲の除電

◆±1kV→±100V 減衰時間15sec (CPM距離610mm/エアパージなし)
※イオンは気流や近接にある金属体に影響を受けるため、保証値ではありません。

◆スタンドアローンモデルでも±20Vでの電位スイングを実現しつつ、
　モニタリング用外部センサーとの組み合わせにより、センシングからのフィードバック制御を実現し、低電位スイングを実現

◆クリーンルームや更衣室の広範囲除電に最適。風速ゼロ環境下でも超広範囲にイオンを供給

◆独自のシンクロナイズ機能により、定期的に全イオナイザーの正負イオン発生タイミングを同期
　より確実なイオンのデリバリーを実現

◆独自の自動イオンバランス制御によりメンテナンスサイクルの長期化を実現

◆イオン発生出力やイオン発生時間等、各種パラメータが幅広い範囲で設定可能
　フレキシブルなロッド長設定が、長距離用途や気流が弱い環境に対し柔軟に対応可能

◆高精度イオンバランス・高速除電・低パーティクルに対応したブロワー

◆外部フィードバックセンサーとの組み合わせにより、±1Vのイオンバランスを達成

　近年最も厳しい静電気管理基準を有する半導体後工程での静電気管理が可能となります。

◆ISO14644-9 準拠測定原理

◆前室・エアーシャワー・床・壁・設備・装置内部の清掃効率、ウエア・グローブの清浄度管理、製品の洗浄効果など、
　表面清浄度に関連する様々なアプリケーションの評価が可能

◆製品/ 部材/ 設備/ 備品/ 搬送ツール/ ヒト/副資材/ 施設の表⾯清浄度管理と清掃・洗浄の妥当性監視のエントリー機材

◆専用テープリフトパッドであらゆる箇所の表面清浄度を測定

◆製造環境中の表面汚染傾向を瞬時に数値化

半導体製造プロセスで多用されるVacuum Chuck PlateとLift Pinに併用して表面処理することで、Siウェハ剥離時の静電気帯電を速やかに接地へ逃がし、各種静電気障害（ESD・ESA・EMI）を未然に防止します。また、主成分であるふっ素樹脂の柔らかさが、Siウェハをやさしく保護します。※2025年11月時点：NFX-6894は仮称