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ダルトン

中央区築地,  東京都 
Japan
https://www.dalton.co.jp/
  • 小間番号W2269


Welcome to our booth!

今回のセミコンでは、下記装置の実機展示を行います。
・蒸気2流体洗浄装置
・両面ブラシ手動スピン洗浄装置
・オゾン水生成装置
・FOUPアナライザー(FOUP BOX洗浄前後の検査測定機)

技術的なご相談及びテストのお問合せも承りますので、お気軽にお声がけ下さい。

また当社は、リフトオフ・レジスト剥離装置、陽極酸化装置、スピンエッチング装置、バッチ式有機剥離洗浄装置、冶具洗浄装置、乾燥装置など、幅広い装置ラインアップを揃えております。

皆様の御来場をお待ちしております。


 出展製品

  • 蒸気2流体洗浄装置
    薬液を使用しない環境に優しい洗浄装置です。水蒸気(気体)と水(液体)を超音速で噴射して異物を除去することが可能です。...

  • ★メリット

    • 薬液を使わないため安全
    • 低コスト
    • 薬液の保管が不要
    • 非接触のため消耗品無し(ブラシなどとの比較)
    • 衝撃波対象物表面の水膜中を伝わり、穴や溝の中にも効果が及ぶ
    • 原料が水だけなので環境に優しい

    ★用途例

    • 付着した異物の除去
    • 油成分の除去
    • 糊などの接着剤の除去
    • 金属リフトオフ(半導体、LEDなどの配線工程)
    • 研磨後の洗浄(研磨剤、研磨くずの除去)
    • 研磨布の再生(目詰まり解消)
    • レジスト剥離
    • メタルリフトオフ
  • オゾン水生成装置
    用途に合わせたオゾン水生成装置を基板洗浄装置に組み込んだカスタム提案が可能です...

  • ★特長

    • 循環方式採用
      1. 溜まり水・捨て水が極めて少ない
      2. 濃度の立ち上がりが早い(1分でオゾン水を生成)
      3. 洗浄プロセスでのオゾン水濃度・流量が安定
    • メタルフリーオゾン水
      1. 独自技術により精密洗浄に適したオゾン水を生成
    • 幅広い用途に対応
      1. 濃度1~100ppm、流量1~50L/minの幅広い適応
      2. 発生器、混合器の個別利用可能

    ★用途

    • レジスト残渣除去
    • 表面保護酸化膜
    • 有機物除去
    • 金属不純物除去
    • 有機膜エッチング
    • 微粒子除去
    • 配管洗浄
    • 殺菌
  • 両面ブラシスピン洗浄装置
    一度にウエハの表面・裏面をブラシ洗浄する装置です。2流体洗浄の併用により、強固な付着物や微細なパーティクル除去が可能です。...

  • ★特長

    装置内構成例:ローダー ⇒ ①ブラシ洗浄チャンバー ⇒ ②リンス乾燥チャンバー ⇒アンローダー

    ①ブラシ洗浄チャンバー:薬液シャワー ⇒ 両面ブラシ洗浄 ⇒ 純水リンス
    ②リンス乾燥チャンバー:2流体(N2+純水)洗浄 ⇒ MSシャワー(オプション) ⇒ N2ブロー乾燥

  • FOUPアナライザー
    全てのAMCカテゴリーの検出を高感度で実現できます...

  • ★特長

    • 比類なき感度
      1. pptvレベルでのAMCの広範囲ガバレッジ
    • 比類なき測定スピード
      1. 測定時間~30秒/FOUP
    • AMC定量分析のためのFOUPハイスループットサンプリング
      1. 各FOUP30秒以内のサンプリングでAMCの状況を網羅的に提供
      2. 検出されたAMCの濃度に基づきFOUP次処理に適合・不適合を判断
      3. 特定FOUPサンプルでの測定は変動20%以下の高い再現性
    • FOUPからのPFAS検出
      1. FOUPからのPFAS排出をリアルタイムでモニター可能
      2. 低pptvあるいはppqレベルのPFASを高精度で測定可能
      3. PFASの環境規制強化への対応には、新たなAMC検出が必要不可欠

    ★用途

    • FOUP BOX洗浄前後の検査測定