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日本ブッシュ

平塚市,  神奈川県 
Japan
http://www.busch.co.jp/
  • 小間番号W3309


Pfeifferのソリューションをご提案!日本ブッシュのブースに是非お越しください。

日本ブッシュは「Your Complete Sub Fab Partner(あなたのサブファブ・パートナー)」をテーマに SEMICON Japan 2025に出展。半導体製造プロセスにおける安定性、安全性、効率性を支援するソリューションをご紹介します。

【見どころ】

  1. コンパクト&超軽量(21kg)で選ばれるリークディテクターの実機デモ
  2. 熱式+湿式ハイブリッドのガス除害システム実寸模型展示
  3. 12/18(木)16時よりハッピーアワー!ドイツワインをお楽しみください


【出展ソリューション】

  1. ハーシュプロセス向けドライ真空ポンプ「UltiDry」

  2. クリーン排気に必須のガス除害装置「CT-TW」

  3. 可搬性で選ばれる超軽量21kgのリークディテクター「ASM310」実機実演
     
  4. ユーザーが簡単にチップシールを交換できるスクロール真空ポンプ「HiScroll18」分解展示

【ハッピーアワーに参加します!】

18日16時~ ドイツワインをご用意して皆様をお待ちしております。是非お立ち寄りください


皆様のご来場をスタッフ一同お待ちしております。


 出展製品

  • リークディテクター「ASM310」
    わずか21kg。手で持ち上げられるリークディテクター。...

  • • 高性能
    • 静音
    • コンパクト

    Technical Data
    排気速度 18.1 m³/h
    到達圧力 (ガスバラ閉時) 0.006 hPa(mbar)
    到達圧力時の消費電力 235 W

  • ガス除害装置「CT-TW」
    サーマル&ウェット ハイブリッド型...

  • • 必用に応じ水素を注入し燃焼温度を高め、PFCガスを分解
    • お客様要件に合わせ柔軟に設計
    • 高アップタイム、優れたメンテナンス性

    Technical Data
    エネルギーソース 電気ヒーター(水素ブースター付き)
    入口接続 最大4つ
    SEMIスタンダード SEMI S2 + S8

  • 多段ルーツポンプ「UltiDry」
    ハーシュプロセス向けドライ真空ポンプ...

  • •最高レベルの排気量
    • 省エネ
    • ハーシュプロセスでも長寿命
    • 長いメンテナンス間隔
    • コーティングの改良

    Technical Data
    公称排気速度 1800 m³/h
    到達圧力 1.1·10-³ mbar
    最大入口流量 160 slm

  • スクロール真空ポンプ「HiScroll 18」
    ユーザーが簡単にチップシール交換可能。ロードロックなどに適したドライポンプ。...

  • • 高性能

    • 静音

    • コンパクト

    Technical Data

    排気速度  18.1 m³/h 

    到達圧力 (ガスバラ閉時) 0.006 hPa(mbar) 

    到達圧力時の消費電力 235 W